Etude de formation des siliciures de l’alliage Pd-Ge / Kadri, Khalissa  

Public ISBD Titre : Etude de formation des siliciures de l’alliage Pd-Ge Type de document : texte imprimé Auteurs : Kadri, Khalissa, Auteur ; A Derafa, Directeur de thèse Editeur : Setif:UFA Année de publication : 2019 Importance : 1 vol (32 f .) Format : 29 cm Langues : Français (fre) Catégories : Thèses & Mémoires:Physique Mots-clés : Physique Index. décimale : 530 Physique Résumé : Dans ce travaille, nous avons étudié la nature des phases qui se forment lors de la réaction du film métallique de Pd10nm/PdGe40nm avec un substrat de silicium subi à un recuit thermique rapide (RTP) déposées par pulvérisation cathodique. Cette étude a été réalisé principalement en utilisant les techniques de caractérisation suivantes : la diffraction des rayons X (DRX), microscopie à force atomique (AFM), microscopie électronique à balayage (MEB), analyse dispersion d’énergie des rayons X (EDX). Les résultats obtenus par DRX montrent que le traitement thermique à 400°C conduit à la formation des phases Pd2Si et Pd2Ge. Ce qui indique qu’une réaction a consommé totalement le PdGe et a engendré la formation d’autres siliciures plus stables. Note de contenu : Sommaire Introduction générale .............................................................................................................. 1 Chapitre I : Généralités sur les réactions métal/ silicium I.1. Introduction ...................................................................................................................... 2 I.2. Formation des siliciures ................................................................................................... 2 I.2.1 La germination ................................................................................................................... 4 I.2.2. Rappel sur la diffusion ...................................................................................................... 5 I.2.3 Cinétique de croissance des siliciures ................................................................................ 5 I.3. Propriétés des siliciures de palladium .............................................................................. 6 I.3.1. Diagramme de phase Pd-Si ............................................................................................... 6 I.3.2. Formation des siliciures de palladium en filme minces .................................................... 7 I.4. Application de PdSi dans l’industrie ................................................................................ 8 I.4.1. Constitution d’un MOSFET .............................................................................................. 8 I.4.2. principe de fonctionnement ............................................................................................... 9 I.4.3. Différents type de construction ....................................................................................... 11 I.4.4. Le procédé SALICIDE : autoalignement du siliciure ..................................................... 11 I.5. Effet des éléments d’alliages sur la siliciuration ............................................................ 13 Chapitre II : Techniques expérimentale utilisées II.1. Introduction ................................................................................................................... 14 II.2. Techniques d’élaboration des couches minces ............................................................. 14 II.2.1. Nettoyage du substrat .................................................................................................... 14 II.2.2. Pulvérisation cathodique ................................................................................................ 14 II.2.2.1. Principe de pulvérisation cathodique .......................................................................... 14 II.2.2.2. Dispositif expérimental ............................................................................................... 15 II.2.3. Recuit thermique rapide ................................................................................................. 16 II.3. Caractérisation structurale ............................................................................................ 17 II.3.1. Diffraction des rayons X (DRX) ................................................................................... 17 II.3.2. Dispositif de diffraction ................................................................................................. 18 II.4. Caractérisation morphologique ..................................................................................... 20 II.4.1. Microscope à force atomique (AFM) ............................................................................ 20 II.4.2. Microscope électronique à balayage (MEB) ................................................................. 21 II.4.3. Analyse EDX (Energy dispersives (x-ray) spectrometry) ............................................. 22 Chapitre III : Résultats expérimentaux et interprétation III.1.Introduction .................................................................................................................. 23 III.2 Analyse structurale par diffraction des rayons X (DRX) ............................................. 23 III.2.1. Systèmes Pd10nm/PdGe40nm/Si(100) avant recuit thermique ................................... 23 III.2.2. Systèmes Pd10nm/PdGe40nm/Si(100) après recuit thermique ................................... 25 III.2.3. Paramètres de maille et taille des grains ...................................................................... 27 III.3. Caractérisation morphologique .................................................................................... 29 III.3.1. Microscope à force atomique (AFM) .......................................................................... 29 III.3.2. étude morphologie par MEB et analyse par EDX ........................................................ 30 Conclusion générale ................................................................................................................. 32 Annexes……………………….…………………………………………………………………………………………………………..…….33 Références ................................................................................................................................ 41 Côte titre : MAPH/0304 En ligne : https://drive.google.com/file/d/10kawMaRVjI0mrtFl_n9hyjX1u1sQVDbh/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : pdf Etude de formation des siliciures de l’alliage Pd-Ge [texte imprimé] / Kadri, Khalissa, Auteur ; A Derafa, Directeur de thèse . - [S.l.] : Setif:UFA, 2019 . - 1 vol (32 f .) ; 29 cm. Langues : Français (fre) Catégories : Thèses & Mémoires:Physique Mots-clés : Physique Index. décimale : 530 Physique Résumé : Dans ce travaille, nous avons étudié la nature des phases qui se forment lors de la réaction du film métallique de Pd10nm/PdGe40nm avec un substrat de silicium subi à un recuit thermique rapide (RTP) déposées par pulvérisation cathodique. Cette étude a été réalisé principalement en utilisant les techniques de caractérisation suivantes : la diffraction des rayons X (DRX), microscopie à force atomique (AFM), microscopie électronique à balayage (MEB), analyse dispersion d’énergie des rayons X (EDX). Les résultats obtenus par DRX montrent que le traitement thermique à 400°C conduit à la formation des phases Pd2Si et Pd2Ge. Ce qui indique qu’une réaction a consommé totalement le PdGe et a engendré la formation d’autres siliciures plus stables. Note de contenu : Sommaire Introduction générale .............................................................................................................. 1 Chapitre I : Généralités sur les réactions métal/ silicium I.1. Introduction ...................................................................................................................... 2 I.2. Formation des siliciures ................................................................................................... 2 I.2.1 La germination ................................................................................................................... 4 I.2.2. Rappel sur la diffusion ...................................................................................................... 5 I.2.3 Cinétique de croissance des siliciures ................................................................................ 5 I.3. Propriétés des siliciures de palladium .............................................................................. 6 I.3.1. Diagramme de phase Pd-Si ............................................................................................... 6 I.3.2. Formation des siliciures de palladium en filme minces .................................................... 7 I.4. Application de PdSi dans l’industrie ................................................................................ 8 I.4.1. Constitution d’un MOSFET .............................................................................................. 8 I.4.2. principe de fonctionnement ............................................................................................... 9 I.4.3. Différents type de construction ....................................................................................... 11 I.4.4. Le procédé SALICIDE : autoalignement du siliciure ..................................................... 11 I.5. Effet des éléments d’alliages sur la siliciuration ............................................................ 13 Chapitre II : Techniques expérimentale utilisées II.1. Introduction ................................................................................................................... 14 II.2. Techniques d’élaboration des couches minces ............................................................. 14 II.2.1. Nettoyage du substrat .................................................................................................... 14 II.2.2. Pulvérisation cathodique ................................................................................................ 14 II.2.2.1. Principe de pulvérisation cathodique .......................................................................... 14 II.2.2.2. Dispositif expérimental ............................................................................................... 15 II.2.3. Recuit thermique rapide ................................................................................................. 16 II.3. Caractérisation structurale ............................................................................................ 17 II.3.1. Diffraction des rayons X (DRX) ................................................................................... 17 II.3.2. Dispositif de diffraction ................................................................................................. 18 II.4. Caractérisation morphologique ..................................................................................... 20 II.4.1. Microscope à force atomique (AFM) ............................................................................ 20 II.4.2. Microscope électronique à balayage (MEB) ................................................................. 21 II.4.3. Analyse EDX (Energy dispersives (x-ray) spectrometry) ............................................. 22 Chapitre III : Résultats expérimentaux et interprétation III.1.Introduction .................................................................................................................. 23 III.2 Analyse structurale par diffraction des rayons X (DRX) ............................................. 23 III.2.1. Systèmes Pd10nm/PdGe40nm/Si(100) avant recuit thermique ................................... 23 III.2.2. Systèmes Pd10nm/PdGe40nm/Si(100) après recuit thermique ................................... 25 III.2.3. Paramètres de maille et taille des grains ...................................................................... 27 III.3. Caractérisation morphologique .................................................................................... 29 III.3.1. Microscope à force atomique (AFM) .......................................................................... 29 III.3.2. étude morphologie par MEB et analyse par EDX ........................................................ 30 Conclusion générale ................................................................................................................. 32 Annexes……………………….…………………………………………………………………………………………………………..…….33 Références ................................................................................................................................ 41 Côte titre : MAPH/0304 En ligne : https://drive.google.com/file/d/10kawMaRVjI0mrtFl_n9hyjX1u1sQVDbh/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : pdf

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MAPH/0304	MAPH/0304	Mémoire	Bibliothéque des sciences	Français	Disponible Disponible

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