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Croissances et étude des propriétés des nanostructures de cobalt obtenues par électrodéposition / KHALDI, Mohamed Rida
Titre : Croissances et étude des propriétés des nanostructures de cobalt obtenues par électrodéposition Type de document : texte imprimé Auteurs : KHALDI, Mohamed Rida ; A Azizi, Directeur de thèse Editeur : Setif:UFA Année de publication : 2007 Importance : 1 vol (77 f .) Format : 29 cm Mots-clés : Electrodéposition
Nucléation et croissance
Cobalt
SiliciumRésumé : L’étude de l’électrodéposition des nanostructures magnétiques sur des surfaces semi-conductrices est un processus très important que ce soit du point de vue fondamental ou des applications. Ce travail décrit le mécanisme de l’électrodéposition et les propriétés des nanostructures de cobalt déposées sur n-Si(111) et p-Si(111) dans une solution de type Watts. L’étude électrochimique montre que le processus de nucléation est instantané suivie d’une croissance (3D) limitée par la diffusion. La caractérisation morphologique menée par AFM indique des couches de Co avec une morphologie et une rugosité de surface différentes pour chaque type du substrat utilisé. L’influence de la conductivité du substrat de silicium sur la morphologie des nanostructures a été mise en évidence. L’analyse XRD montre une structure cfc et hcp mélangée avec un faible degré de cristallinité. Les courbes d’hystérésis obtenues par AGFM montrent que l’axe facile de l’aimantation est dans le plan des échantillons. Côte titre : MCH /0023 En ligne : http://dspace.univ-setif.dz:8888/jspui/bitstream/123456789/1229/3/M%c3%a9moire%2 [...] Croissances et étude des propriétés des nanostructures de cobalt obtenues par électrodéposition [texte imprimé] / KHALDI, Mohamed Rida ; A Azizi, Directeur de thèse . - [S.l.] : Setif:UFA, 2007 . - 1 vol (77 f .) ; 29 cm.
Mots-clés : Electrodéposition
Nucléation et croissance
Cobalt
SiliciumRésumé : L’étude de l’électrodéposition des nanostructures magnétiques sur des surfaces semi-conductrices est un processus très important que ce soit du point de vue fondamental ou des applications. Ce travail décrit le mécanisme de l’électrodéposition et les propriétés des nanostructures de cobalt déposées sur n-Si(111) et p-Si(111) dans une solution de type Watts. L’étude électrochimique montre que le processus de nucléation est instantané suivie d’une croissance (3D) limitée par la diffusion. La caractérisation morphologique menée par AFM indique des couches de Co avec une morphologie et une rugosité de surface différentes pour chaque type du substrat utilisé. L’influence de la conductivité du substrat de silicium sur la morphologie des nanostructures a été mise en évidence. L’analyse XRD montre une structure cfc et hcp mélangée avec un faible degré de cristallinité. Les courbes d’hystérésis obtenues par AGFM montrent que l’axe facile de l’aimantation est dans le plan des échantillons. Côte titre : MCH /0023 En ligne : http://dspace.univ-setif.dz:8888/jspui/bitstream/123456789/1229/3/M%c3%a9moire%2 [...] Exemplaires (2)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité MCH /0027 MCH /0027 Mémoire Bibliothéque des sciences Français Disponible
DisponibleMCH/0023 MCH/0023 Mémoire Bibliothéque des sciences Français Disponible
DisponibleDéposition électrochimique des hétérojonctions p-n à base des oxydes métalliques semi-conducteurs. / Dounia Boudoukha
Titre : Déposition électrochimique des hétérojonctions p-n à base des oxydes métalliques semi-conducteurs. Type de document : texte imprimé Auteurs : Dounia Boudoukha, Auteur ; A Azizi, Directeur de thèse Editeur : Setif:UFA Année de publication : 2019 Importance : 1 vol (76 f.) Format : 29 Langues : Français (fre) Catégories : Thèses & Mémoires:Chimie Mots-clés : Electrodéposition
hétérojonction
photovoltaïque
couche de nucléation
i-ZnOIndex. décimale : 204- chimie Résumé :
Dans ce présent travail, une hétérojonction p-Cu2O/n-ZnO/i-ZnO/FTO a été réalisée par
voie électrochimique ; également l’effet de la couche de nucléation (i-ZnO) sur les propriétés
de cette jonction a été démontré. La voltamétrie cyclique a été utilisée pour étudier les
mécanismes d’électrodéposition du Cu2O et du ZnO. Les dépôts sont obtenus par
chronocoulométrie. Les mesures de Mott-Schottky (M-S) ont montré que les nanostructures du
p-Cu2O, n-ZnO et n-ZnO/i-ZnO électrodéposées possèdent des conductivités de type p et n,
respectivement avec une augmentation de la densité des porteurs de charges de 1.96 ×1020 Ã
3.34 ×1020 cm3 dans le ZnO qui sont due à la présence de i-ZnO. De plus, la diffraction des
rayons X (DRX) a révélé l'existence d’une seule phase ZnO (002) de structure hexagonale
compacte (Würtzite) et une phase Cu2O (111) de structure cubique. Egalement, elle a indiqué
que la couche de nucléation a amélioré considérablement la qualité cristalline de dépôt. Par
ailleurs, la caractérisation par AFM et MEB exposent une amélioration morphologique de la
surface des dépôts lors de la présence de i-ZnO. D’autre part, la spectroscopie UV-Vis a indiqué
que l’absorbance des échantillons est importante dans le visible et le gap optique du n-ZnO
augmente à la présence de la couche de nucléation de 3.26 à 3.33 eV. Finalement la
caractérisation électrique (I-V) a confirmé la formation d’une jonction p-n.
Note de contenu : Table des matières
Liste des figures………………………………………………………………………………...I
Liste des tableaux……………………………………………………………………………...II
Liste des sigles et abréviations………………………………………………………………..III
Introduction générale…...……………………………..……………………………………….1
Références bibliographiques……………………………………………...………………........4
Chapitre I : Etude bibliographique
I. Champ d’application des nanostructures à base des oxydes métalliques semiconducteurs dans
le photovoltaïque……………………………………………….………………………..……5
I. 1 Rappels sur les oxydes métalliques…………………………………………………….........5
I. 2 Cellule photovoltaïque à base d’oxydes métalliques………………………………………...7
I. 2 1 Propriétés de l’oxyde de cuivre (Cu2O) ……………………………………………….......7
I. 2. 2 Propriétés de l’oxyde de zinc (ZnO)……………………………………………...………8
I. 2. 3 Les hétérojonctions p-n à base des hétérostructures p-Cu2O/n-ZnO ……….…….…….10
I. 3 Aspect théorique de l’électrodéposition……………...…………………….……………....12
I. 3. 1 Principe de l’électrodéposition ……………...…………………….………………….....12
I. 3. 2 Mécanisme de l’électrodéposition ……………………...…………………….………....13
I. 3. 2. 1 Le transfert de masse……………...…………………….…………………………….13
I. 3. 2. 2 Le transfert de charge ……………...…………………….…………………………...13
I. 3. 2. 3 La cristallisation ……………...…………………….………………………………...14
I. 3. 3 Nucléation et croissance électrochimique……………...…………………….………….14
I. 3. 3. 1 Les modèles de nucléation ……………...…………………….……………………....14
I. 3. 3. 2 Les différents modes de croissance ……………...…………………….……………..14
Références bibliographiques………………………………………………...……………….....16
Chapitre II : Dispositifs expérimentaux et techniques de caractérisation
II. 1 Dispositif expérimental ……….….…………………….…….…………….…….……….21
II. 1. 1 Montage électrochimique………………………………..………………………….....21
II. 2 Les électrodes ……………………………………………..………………………….….21
II. 1. 3 Bain et conditions d’élaboration………………………...………………………….....22
II. 1. 4 Préparation des substrats………………………………..…………………………......22
II. 2 Méthodes expérimentales ……………………………………………………………......22
II. 2. 1 Méthodes de caractérisations ‘in-situ’…………………………………………………22
II. 2. 1. 1 Voltampérométrique cyclique (VC)………………………………………….……..22
II. 2. 1. 2 Chronocoulométrie………………………………………………………………….23
II. 2. 1. 3 Mesure de Mott-Schottky (M-S) ……………………………………………………24
II. 2. 2 Méthodes de caractérisations ‘ex-situ’…………………………………………….......25
II. 2. 2. 1 Spectroscopie Ultraviolet-Visible (UV/Vis) ……………………………………….25
II. 2. 2. 2 Diffraction des rayon X (DRX)………………………………………………….....26
II. 2. 2. 3 Microscopie électronique à balayage (MEB)……………………………………....27
II. 2. 2. 4 Microscope à force atomique (AFM)……………………………………………....27
Références bibliographiques………………………………………………………………….29
Chapitre III : Résultats et discussions
III. 1 Mécanisme d’électrodéposition de ZnO et de Cu2O……………………………………31
III. 2 Caractérisations électrochimiques ‘in-situ’ ……………………………………….……33
III. 2. 1 Etude par voltamétrie cyclique (VC)……………………………………………….....33
III. 2. 1. 1 Comportement du substrat en présence de Zn (II)…………………………………33
III. 2. 1. 2 Comportement du substrat en présence de Cu (II)………………………………...35
III. 2. 2 Mesure de Mott-Schottky (M-S)……………………………………………………..37
III. 3 Caractérisations électrochimiques ‘ex-situ’……………………………………….……40
III. 3. 1 Diffraction des rayons X (DRX)……………………………………………………..40
III. 3. 2 Spectroscopie Ultraviolet-Visible (UV/Vis)………………………………………....44
III. 3. 3 Microscopie électronique à balayage (MEB)………………………………………...47
III. 3. 4 Microscopie à force atomique (AFM) ……………………………………………….49
III. 3. 5 Caractérisation courant- voltage (I-V)…………………………………………….....50
Références bibliographiques………………………………………………………………….52
Conclusion Générale………………………………………………………………………….58Côte titre : MACH/0095 En ligne : https://drive.google.com/file/d/1JvQPIY4IEBXYqLknAM1KdM6JXxtK4d_U/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : Déposition électrochimique des hétérojonctions p-n à base des oxydes métalliques semi-conducteurs. [texte imprimé] / Dounia Boudoukha, Auteur ; A Azizi, Directeur de thèse . - [S.l.] : Setif:UFA, 2019 . - 1 vol (76 f.) ; 29.
Langues : Français (fre)
Catégories : Thèses & Mémoires:Chimie Mots-clés : Electrodéposition
hétérojonction
photovoltaïque
couche de nucléation
i-ZnOIndex. décimale : 204- chimie Résumé :
Dans ce présent travail, une hétérojonction p-Cu2O/n-ZnO/i-ZnO/FTO a été réalisée par
voie électrochimique ; également l’effet de la couche de nucléation (i-ZnO) sur les propriétés
de cette jonction a été démontré. La voltamétrie cyclique a été utilisée pour étudier les
mécanismes d’électrodéposition du Cu2O et du ZnO. Les dépôts sont obtenus par
chronocoulométrie. Les mesures de Mott-Schottky (M-S) ont montré que les nanostructures du
p-Cu2O, n-ZnO et n-ZnO/i-ZnO électrodéposées possèdent des conductivités de type p et n,
respectivement avec une augmentation de la densité des porteurs de charges de 1.96 ×1020 Ã
3.34 ×1020 cm3 dans le ZnO qui sont due à la présence de i-ZnO. De plus, la diffraction des
rayons X (DRX) a révélé l'existence d’une seule phase ZnO (002) de structure hexagonale
compacte (Würtzite) et une phase Cu2O (111) de structure cubique. Egalement, elle a indiqué
que la couche de nucléation a amélioré considérablement la qualité cristalline de dépôt. Par
ailleurs, la caractérisation par AFM et MEB exposent une amélioration morphologique de la
surface des dépôts lors de la présence de i-ZnO. D’autre part, la spectroscopie UV-Vis a indiqué
que l’absorbance des échantillons est importante dans le visible et le gap optique du n-ZnO
augmente à la présence de la couche de nucléation de 3.26 à 3.33 eV. Finalement la
caractérisation électrique (I-V) a confirmé la formation d’une jonction p-n.
Note de contenu : Table des matières
Liste des figures………………………………………………………………………………...I
Liste des tableaux……………………………………………………………………………...II
Liste des sigles et abréviations………………………………………………………………..III
Introduction générale…...……………………………..……………………………………….1
Références bibliographiques……………………………………………...………………........4
Chapitre I : Etude bibliographique
I. Champ d’application des nanostructures à base des oxydes métalliques semiconducteurs dans
le photovoltaïque……………………………………………….………………………..……5
I. 1 Rappels sur les oxydes métalliques…………………………………………………….........5
I. 2 Cellule photovoltaïque à base d’oxydes métalliques………………………………………...7
I. 2 1 Propriétés de l’oxyde de cuivre (Cu2O) ……………………………………………….......7
I. 2. 2 Propriétés de l’oxyde de zinc (ZnO)……………………………………………...………8
I. 2. 3 Les hétérojonctions p-n à base des hétérostructures p-Cu2O/n-ZnO ……….…….…….10
I. 3 Aspect théorique de l’électrodéposition……………...…………………….……………....12
I. 3. 1 Principe de l’électrodéposition ……………...…………………….………………….....12
I. 3. 2 Mécanisme de l’électrodéposition ……………………...…………………….………....13
I. 3. 2. 1 Le transfert de masse……………...…………………….…………………………….13
I. 3. 2. 2 Le transfert de charge ……………...…………………….…………………………...13
I. 3. 2. 3 La cristallisation ……………...…………………….………………………………...14
I. 3. 3 Nucléation et croissance électrochimique……………...…………………….………….14
I. 3. 3. 1 Les modèles de nucléation ……………...…………………….……………………....14
I. 3. 3. 2 Les différents modes de croissance ……………...…………………….……………..14
Références bibliographiques………………………………………………...……………….....16
Chapitre II : Dispositifs expérimentaux et techniques de caractérisation
II. 1 Dispositif expérimental ……….….…………………….…….…………….…….……….21
II. 1. 1 Montage électrochimique………………………………..………………………….....21
II. 2 Les électrodes ……………………………………………..………………………….….21
II. 1. 3 Bain et conditions d’élaboration………………………...………………………….....22
II. 1. 4 Préparation des substrats………………………………..…………………………......22
II. 2 Méthodes expérimentales ……………………………………………………………......22
II. 2. 1 Méthodes de caractérisations ‘in-situ’…………………………………………………22
II. 2. 1. 1 Voltampérométrique cyclique (VC)………………………………………….……..22
II. 2. 1. 2 Chronocoulométrie………………………………………………………………….23
II. 2. 1. 3 Mesure de Mott-Schottky (M-S) ……………………………………………………24
II. 2. 2 Méthodes de caractérisations ‘ex-situ’…………………………………………….......25
II. 2. 2. 1 Spectroscopie Ultraviolet-Visible (UV/Vis) ……………………………………….25
II. 2. 2. 2 Diffraction des rayon X (DRX)………………………………………………….....26
II. 2. 2. 3 Microscopie électronique à balayage (MEB)……………………………………....27
II. 2. 2. 4 Microscope à force atomique (AFM)……………………………………………....27
Références bibliographiques………………………………………………………………….29
Chapitre III : Résultats et discussions
III. 1 Mécanisme d’électrodéposition de ZnO et de Cu2O……………………………………31
III. 2 Caractérisations électrochimiques ‘in-situ’ ……………………………………….……33
III. 2. 1 Etude par voltamétrie cyclique (VC)……………………………………………….....33
III. 2. 1. 1 Comportement du substrat en présence de Zn (II)…………………………………33
III. 2. 1. 2 Comportement du substrat en présence de Cu (II)………………………………...35
III. 2. 2 Mesure de Mott-Schottky (M-S)……………………………………………………..37
III. 3 Caractérisations électrochimiques ‘ex-situ’……………………………………….……40
III. 3. 1 Diffraction des rayons X (DRX)……………………………………………………..40
III. 3. 2 Spectroscopie Ultraviolet-Visible (UV/Vis)………………………………………....44
III. 3. 3 Microscopie électronique à balayage (MEB)………………………………………...47
III. 3. 4 Microscopie à force atomique (AFM) ……………………………………………….49
III. 3. 5 Caractérisation courant- voltage (I-V)…………………………………………….....50
Références bibliographiques………………………………………………………………….52
Conclusion Générale………………………………………………………………………….58Côte titre : MACH/0095 En ligne : https://drive.google.com/file/d/1JvQPIY4IEBXYqLknAM1KdM6JXxtK4d_U/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité MACH/0095 MACH/0095 Mémoire Bibliothéque des sciences Français Disponible
DisponibleEffet des additifs organiques sur les propriétés de nanostructures Co-Mo obtenues par déposition électrochimique / Messaoudi, Yazid.
Titre : Effet des additifs organiques sur les propriétés de nanostructures Co-Mo obtenues par déposition électrochimique Type de document : texte imprimé Auteurs : Messaoudi, Yazid. ; A Azizi, Directeur de thèse Editeur : Setif:UFA Année de publication : 2014 Importance : 1 vol (125 f .) Format : 29 cm Langues : Français (fre) Langues originales : Français (fre) Catégories : Thèses & Mémoires:Chimie Mots-clés : Alliages magnétiques
CO-MO
Electrodéposition
Additifs
Nucléation-croissans
Morphologie
Structure
Propriétés magnétiquesIndex. décimale : 540 - Chimie et sciences connexes Résumé :
Dans ce travail,nous nous sommes intéressons ai'effet des additifs sur les caractéristiques électrochimiques
morphologiques,structurales et magnétiques des films minces d'alliage Co-Mo électro déposés sur un substrat de ruthénium a partir de bain sulfate l'étude cinétique de dépôt par la technique voltammétrique a permis d'optimiser les conditions d'électrodéposition de ces couches minces l'analyse des courants trasiroires par l'utilisation du modéle théorique de scharifker- hills indique que le mécanisme de nucléation suit une nucléation de type instantanée suivie par une croissance tridimensionnelle(volmer-weber)limitée par la diffusion ce mode de nucléation aéte influencé par la nature et la concentration de l'additif ajouté au bain de déposition lacaractérisation ex-situ des échantillons aéte déterminée par microscopie a force atomique (AFM) microscopie électronique a balayage (MEB) DIFFRACTION DE RAYONSx(DRX) ET MAGNÉTOMÉTRIE AGRADIENT de champ magnétique alternatif la morphologie de la surface des films varie avec la nature d' additif la diffraction x indique que les dépôts sont constitués dune phase hexagonale compactes co hcp les propriétés magnétique de ces alliages ont été considérablement améliorées par l'ajout de saccharine et de citrate
Note de contenu :
Table des matières
Introduction générale ……………………......................................................................... 1
Chapitre I Revue bibliographique
I. Revue bibliographique ………………………………………………………………….. 5
I.1 Approche bibliographique sur les Systèmes Micro-Electromécaniques MEMS ……... 5
I.1.2 Historique …………………………………………………………………………… 7
I.1.3 Définitions et classifications ………………………………………………………… 9
I.1.4 Procédés de dépôt de couches minces pour MEMS ………………………………… 10
I.1.4.1 Dépôt résultant d’une transformation physique …………………………………… 11
I.1.4.2 Dépôt résultant d’une réaction chimique ……………………………..................... 13
I.2 Principes fondamentaux de l’électrodéposition des métaux …………………………. 15
I.2.1 Interface électrode-électrolyte ……………………………………………………… 16
I.2.2 Cinétique à l’interface électrode-électrolyte ……………………………………….. 18
I.2.3 Nucléation et croissance électrochimique …………………………………………. 25
I.2.3.1 Nucléation …………………………………………………………………………. 25
I.2.3.2 Croissance électrochimique……………………………………………………... 30
I.3 Electrodéposition des alliages …………………………………………………………. 31
I.3.1 Thermodynamique de l’électrodéposition des alliages ……………………………… 31
I.3.2 Cinétique de l’électrodéposition des alliages ……………………………………….. 33
I.3.3 Facteurs thermodynamiques affectant l’électrodéposition des alliages …………… 35
I.3.4 Effet des additifs organique sur l’électrodéposition des métaux et alliages ……….. 36
I.4 Survol de la littérature …………………………………………………………………. 37
I.4.1 Propriétés et applications du Cobalt …………………………………………………. 37
I.4.2 Propriétés et applications du molybdène …………………………………………….. 38
I.4.3 La codéposition induite du Mo avec les éléments du groupe de fer ………………. 39
I.5 Conclusion ……………………………………………………………………………... 44
Références ………………………………………………………………………………... 45
Chapitre II Techniques d’élaborations et de caractérisations des dépôts
II.1 Montage électrochimique …………………………………………………………….. 48
II.1.1 Cellule électrochimique …………………………………………………………….. 49
II.1.2 Les électrodes ………………………………………………………………………. 50
II.2 Méthodes expérimentales …………………………………………………………….. 51
II.2.1 Techniques électrochimiques ……………………………………………………….. 51
II.2.1.1 Voltammètrie cyclique (VC) ……………………………………………………… 51
II.2.1.2 Chronoampérométrie (CA) ……………………………………………………….. 54
II.2.1.3 Rendement en courant (RC) …………………………………………………......... 55
II.2.1.4 Spectroscopie d’Impédance Electrochimique (SIE) ……………………………. 56
II.2.2 Caractérisation ex-situ des dépôts …………………………………………………. 60
II.2.2.1 Mesure de l’épaisseur ……………………………………………………………. 60
II.2.2.2 Analyses morphologique par microscopie ………………………………………. 60
a) Microscopie à force atomique (AFM) …………………………………………… 60
b) Microscope Electronique à Balayage (MEB) …………………………………….63
II.2.2.3 Caractérisation structurale par diffraction des rayons X (DRX) ………………….. 65
II.2.2.4 Caractérisation magnétiques ……………………………………………………… 67
a) Le ferromagnétisme …………………………………………………………… 67
b) Courbe d’hystérésis ……………………………………………………………. 68
II.3 Conclusion …………………………………………………………………………….. 70
Références …………………………………………………………………………………. 71
Chapitre III Influence des additifs organiques sur le processus de l’électrodéposition des
alliages de Co-Mo
III.1 Optimisation des conditions expérimentales d’électrodéposition ……………………. 73
III.1.1 Détermination des concentrations des ions métalliques …………………………… 76
III.1.2 Choix du potentiel de déposition …………………………………………………... 77
III.2 Mécanisme de nucléation et de croissance de codépot Co-Mo ……………………… 79
III.2.1 Courbes courant-temps ……………………………………………………………. 79
III.2.2 Nucléation et croissance de Co-Mo en absence des additifs ……………………… 80
III.3 Effet des additifs organiques sur l’électrodéposition de l’alliage Co-Mo …………… 82
III.3.1 Ajout des additifs ………………………………………………………………….. 82
III.3.2 Ajout de saccharine ………………………………………………………………… 83
III.3.3 Ajout de citrate …………………………………………………………………….. 85
III.3.4 Effet des additifs sur le rendement en courant ……………………………………. 87
III.3.5 Influence des additifs sur le mécanisme de nucléation et croissance …………….. 88
III.3.5.1 Courbes transitoires ……………………………………………………………… 88
III.3.5.2 Nucléation et croissance en présence des additifs ………………………………. 89
III.4 Influence des additifs sur les propriétés de corrosion des codépots de Co-Mo ……… 92
III.4.1 Courbes de polarisation (Courbes de Tafel) ……………………………………..... 92
III.4.2 Etude par spectroscopie d’impédance électrochimique …………………………… 95
III.5 Conclusion …………………………………………………………………………… 99
Références ………………………………………………………………………………… 100
Chapitre IV Influence des additifs sur les propriétés des codépôts de Co-Mo
IV.1 Détermination des épaisseurs de codépôts …………………………………………. 103
IV.2 Effet des additifs sur la morphologie ……………………………………………….. 105
IV.2.1 Etude par microscope à force atomique ………………………………………….. 105
IV.2.2 Etude par microscope électronique à balayage ……………………………………. 108
IV.3 Caractérisation structurale de codépôts………………………………………………. 112
IV.4 Effet des additifs sur les propriétés magnétiques …………………………………… 116
IV.5 Conclusion …………………………………………………………………………… 120
Références ………………………………………………………………………………… 122
Conclusion générale ……………………………………………………………………… 124Côte titre : DCH/0012-0013 En ligne : http://dspace.univ-setif.dz:8888/jspui/handle/123456789/1843 Effet des additifs organiques sur les propriétés de nanostructures Co-Mo obtenues par déposition électrochimique [texte imprimé] / Messaoudi, Yazid. ; A Azizi, Directeur de thèse . - [S.l.] : Setif:UFA, 2014 . - 1 vol (125 f .) ; 29 cm.
Langues : Français (fre) Langues originales : Français (fre)
Catégories : Thèses & Mémoires:Chimie Mots-clés : Alliages magnétiques
CO-MO
Electrodéposition
Additifs
Nucléation-croissans
Morphologie
Structure
Propriétés magnétiquesIndex. décimale : 540 - Chimie et sciences connexes Résumé :
Dans ce travail,nous nous sommes intéressons ai'effet des additifs sur les caractéristiques électrochimiques
morphologiques,structurales et magnétiques des films minces d'alliage Co-Mo électro déposés sur un substrat de ruthénium a partir de bain sulfate l'étude cinétique de dépôt par la technique voltammétrique a permis d'optimiser les conditions d'électrodéposition de ces couches minces l'analyse des courants trasiroires par l'utilisation du modéle théorique de scharifker- hills indique que le mécanisme de nucléation suit une nucléation de type instantanée suivie par une croissance tridimensionnelle(volmer-weber)limitée par la diffusion ce mode de nucléation aéte influencé par la nature et la concentration de l'additif ajouté au bain de déposition lacaractérisation ex-situ des échantillons aéte déterminée par microscopie a force atomique (AFM) microscopie électronique a balayage (MEB) DIFFRACTION DE RAYONSx(DRX) ET MAGNÉTOMÉTRIE AGRADIENT de champ magnétique alternatif la morphologie de la surface des films varie avec la nature d' additif la diffraction x indique que les dépôts sont constitués dune phase hexagonale compactes co hcp les propriétés magnétique de ces alliages ont été considérablement améliorées par l'ajout de saccharine et de citrate
Note de contenu :
Table des matières
Introduction générale ……………………......................................................................... 1
Chapitre I Revue bibliographique
I. Revue bibliographique ………………………………………………………………….. 5
I.1 Approche bibliographique sur les Systèmes Micro-Electromécaniques MEMS ……... 5
I.1.2 Historique …………………………………………………………………………… 7
I.1.3 Définitions et classifications ………………………………………………………… 9
I.1.4 Procédés de dépôt de couches minces pour MEMS ………………………………… 10
I.1.4.1 Dépôt résultant d’une transformation physique …………………………………… 11
I.1.4.2 Dépôt résultant d’une réaction chimique ……………………………..................... 13
I.2 Principes fondamentaux de l’électrodéposition des métaux …………………………. 15
I.2.1 Interface électrode-électrolyte ……………………………………………………… 16
I.2.2 Cinétique à l’interface électrode-électrolyte ……………………………………….. 18
I.2.3 Nucléation et croissance électrochimique …………………………………………. 25
I.2.3.1 Nucléation …………………………………………………………………………. 25
I.2.3.2 Croissance électrochimique……………………………………………………... 30
I.3 Electrodéposition des alliages …………………………………………………………. 31
I.3.1 Thermodynamique de l’électrodéposition des alliages ……………………………… 31
I.3.2 Cinétique de l’électrodéposition des alliages ……………………………………….. 33
I.3.3 Facteurs thermodynamiques affectant l’électrodéposition des alliages …………… 35
I.3.4 Effet des additifs organique sur l’électrodéposition des métaux et alliages ……….. 36
I.4 Survol de la littérature …………………………………………………………………. 37
I.4.1 Propriétés et applications du Cobalt …………………………………………………. 37
I.4.2 Propriétés et applications du molybdène …………………………………………….. 38
I.4.3 La codéposition induite du Mo avec les éléments du groupe de fer ………………. 39
I.5 Conclusion ……………………………………………………………………………... 44
Références ………………………………………………………………………………... 45
Chapitre II Techniques d’élaborations et de caractérisations des dépôts
II.1 Montage électrochimique …………………………………………………………….. 48
II.1.1 Cellule électrochimique …………………………………………………………….. 49
II.1.2 Les électrodes ………………………………………………………………………. 50
II.2 Méthodes expérimentales …………………………………………………………….. 51
II.2.1 Techniques électrochimiques ……………………………………………………….. 51
II.2.1.1 Voltammètrie cyclique (VC) ……………………………………………………… 51
II.2.1.2 Chronoampérométrie (CA) ……………………………………………………….. 54
II.2.1.3 Rendement en courant (RC) …………………………………………………......... 55
II.2.1.4 Spectroscopie d’Impédance Electrochimique (SIE) ……………………………. 56
II.2.2 Caractérisation ex-situ des dépôts …………………………………………………. 60
II.2.2.1 Mesure de l’épaisseur ……………………………………………………………. 60
II.2.2.2 Analyses morphologique par microscopie ………………………………………. 60
a) Microscopie à force atomique (AFM) …………………………………………… 60
b) Microscope Electronique à Balayage (MEB) …………………………………….63
II.2.2.3 Caractérisation structurale par diffraction des rayons X (DRX) ………………….. 65
II.2.2.4 Caractérisation magnétiques ……………………………………………………… 67
a) Le ferromagnétisme …………………………………………………………… 67
b) Courbe d’hystérésis ……………………………………………………………. 68
II.3 Conclusion …………………………………………………………………………….. 70
Références …………………………………………………………………………………. 71
Chapitre III Influence des additifs organiques sur le processus de l’électrodéposition des
alliages de Co-Mo
III.1 Optimisation des conditions expérimentales d’électrodéposition ……………………. 73
III.1.1 Détermination des concentrations des ions métalliques …………………………… 76
III.1.2 Choix du potentiel de déposition …………………………………………………... 77
III.2 Mécanisme de nucléation et de croissance de codépot Co-Mo ……………………… 79
III.2.1 Courbes courant-temps ……………………………………………………………. 79
III.2.2 Nucléation et croissance de Co-Mo en absence des additifs ……………………… 80
III.3 Effet des additifs organiques sur l’électrodéposition de l’alliage Co-Mo …………… 82
III.3.1 Ajout des additifs ………………………………………………………………….. 82
III.3.2 Ajout de saccharine ………………………………………………………………… 83
III.3.3 Ajout de citrate …………………………………………………………………….. 85
III.3.4 Effet des additifs sur le rendement en courant ……………………………………. 87
III.3.5 Influence des additifs sur le mécanisme de nucléation et croissance …………….. 88
III.3.5.1 Courbes transitoires ……………………………………………………………… 88
III.3.5.2 Nucléation et croissance en présence des additifs ………………………………. 89
III.4 Influence des additifs sur les propriétés de corrosion des codépots de Co-Mo ……… 92
III.4.1 Courbes de polarisation (Courbes de Tafel) ……………………………………..... 92
III.4.2 Etude par spectroscopie d’impédance électrochimique …………………………… 95
III.5 Conclusion …………………………………………………………………………… 99
Références ………………………………………………………………………………… 100
Chapitre IV Influence des additifs sur les propriétés des codépôts de Co-Mo
IV.1 Détermination des épaisseurs de codépôts …………………………………………. 103
IV.2 Effet des additifs sur la morphologie ……………………………………………….. 105
IV.2.1 Etude par microscope à force atomique ………………………………………….. 105
IV.2.2 Etude par microscope électronique à balayage ……………………………………. 108
IV.3 Caractérisation structurale de codépôts………………………………………………. 112
IV.4 Effet des additifs sur les propriétés magnétiques …………………………………… 116
IV.5 Conclusion …………………………………………………………………………… 120
Références ………………………………………………………………………………… 122
Conclusion générale ……………………………………………………………………… 124Côte titre : DCH/0012-0013 En ligne : http://dspace.univ-setif.dz:8888/jspui/handle/123456789/1843 Exemplaires (2)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité DCH/0012 DCH/0012-0013 Thèse Bibliothéque des sciences Français Disponible
DisponibleDCH/0013 DCH/0012-0013 Thèse Bibliothéque des sciences Français Disponible
DisponibleElaboration et caractérisation des nanostructures de Co-Cu obtenues par électrodéposition / NEMLA, Fatima
Titre : Elaboration et caractérisation des nanostructures de Co-Cu obtenues par électrodéposition Type de document : texte imprimé Auteurs : NEMLA, Fatima ; A Azizi, Directeur de thèse Editeur : Setif:UFA Année de publication : 2011 Importance : 1 vol (30 F.) Format : 29 cm Catégories : Thèses & Mémoires:Physique Mots-clés : Ingénierie des Matériaux
Nanostructures de Co-Cu obtenues
ElectrodépositionIndex. décimale : 530 Physique Côte titre : MAPH/0008-0009 Elaboration et caractérisation des nanostructures de Co-Cu obtenues par électrodéposition [texte imprimé] / NEMLA, Fatima ; A Azizi, Directeur de thèse . - [S.l.] : Setif:UFA, 2011 . - 1 vol (30 F.) ; 29 cm.
Catégories : Thèses & Mémoires:Physique Mots-clés : Ingénierie des Matériaux
Nanostructures de Co-Cu obtenues
ElectrodépositionIndex. décimale : 530 Physique Côte titre : MAPH/0008-0009 Exemplaires (2)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité MAPH/0009 MAPH/0008-0009 Mémoire Bibliothéque des sciences Français Disponible
DisponibleMAPH/0008 MAPH/0008-0009 Mémoire Bibliothéque des sciences Français Disponible
DisponibleÉlaboration et caractérisations des nanostructures de ZnO non dopées, dopées et co-dopées Al, Mg préparées par électrodéposition et bain chimique / Boulahbal ,Aziza Imene
Titre : Élaboration et caractérisations des nanostructures de ZnO non dopées, dopées et co-dopées Al, Mg préparées par électrodéposition et bain chimique Type de document : texte imprimé Auteurs : Boulahbal ,Aziza Imene, Auteur ; A Azizi, Directeur de thèse Editeur : Setif:UFA Année de publication : 2021 Importance : 1 vol (76 f .) Format : 29 cm Langues : Français (fre) Catégories : Thèses & Mémoires:Chimie Mots-clés : Electrodéposition
Dépôt en bain chimique (CBD)Index. décimale : 540 Chimie et sciences connexes Résumé :
Ce travail traite l’influence du procédé d’élaboration sur les propriétés microstructurales,
électriques et optiques des nanostructures de ZnO nondopées, dopées Al et Mg et co-dopées
Al + Mg. Pour cela, deux techniques de dépôt sont utilisées : l’électrodéposition et la
déposition en bain chimique. En fonction de la technique d’élaboration utilisée, la relation
entre la teneur en Al, Mg et Al+Mg et les performances des nanostructures sont très
différentes avec un impact d’élément Al beaucoup plus marqué pour les électrodépôts par
rapport aux nanostructures obtenues par bain chimique. Les propriétés électrochimiques sont
évaluées par des courbes de voltammétrie cyclique et les propriétés électroniques par des
mesures de Mott-Schottky. Une conductivité de type n a été observée pour tous les
échantillons pour les deux méthodes de dépôt. Une augmentation de la densité des porteurs de
charge (ND), est généralement observée avec la teneur des deux éléments. La morphologie de
surface est également influencée par le processus d’élaboration. Cependant, la structure
hexagonale wurtzite de ZnO a été conservée pour les deux processus avec une orientation
préférentielle généralement selon la direction (002). Egalement, la cristallinité est meilleure
pour les électrodépôts que ceux du bain chimique. Une augmentation de La transmission dans
le visible et du gap optique ont été observées pour les nanostructures dopés et co-dopés pour
les deux processus.Côte titre : MACH/0238 En ligne : https://drive.google.com/file/d/1o5eqmE-q6uV-YeMW-hy-l1paXsw9cko2/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : Élaboration et caractérisations des nanostructures de ZnO non dopées, dopées et co-dopées Al, Mg préparées par électrodéposition et bain chimique [texte imprimé] / Boulahbal ,Aziza Imene, Auteur ; A Azizi, Directeur de thèse . - [S.l.] : Setif:UFA, 2021 . - 1 vol (76 f .) ; 29 cm.
Langues : Français (fre)
Catégories : Thèses & Mémoires:Chimie Mots-clés : Electrodéposition
Dépôt en bain chimique (CBD)Index. décimale : 540 Chimie et sciences connexes Résumé :
Ce travail traite l’influence du procédé d’élaboration sur les propriétés microstructurales,
électriques et optiques des nanostructures de ZnO nondopées, dopées Al et Mg et co-dopées
Al + Mg. Pour cela, deux techniques de dépôt sont utilisées : l’électrodéposition et la
déposition en bain chimique. En fonction de la technique d’élaboration utilisée, la relation
entre la teneur en Al, Mg et Al+Mg et les performances des nanostructures sont très
différentes avec un impact d’élément Al beaucoup plus marqué pour les électrodépôts par
rapport aux nanostructures obtenues par bain chimique. Les propriétés électrochimiques sont
évaluées par des courbes de voltammétrie cyclique et les propriétés électroniques par des
mesures de Mott-Schottky. Une conductivité de type n a été observée pour tous les
échantillons pour les deux méthodes de dépôt. Une augmentation de la densité des porteurs de
charge (ND), est généralement observée avec la teneur des deux éléments. La morphologie de
surface est également influencée par le processus d’élaboration. Cependant, la structure
hexagonale wurtzite de ZnO a été conservée pour les deux processus avec une orientation
préférentielle généralement selon la direction (002). Egalement, la cristallinité est meilleure
pour les électrodépôts que ceux du bain chimique. Une augmentation de La transmission dans
le visible et du gap optique ont été observées pour les nanostructures dopés et co-dopés pour
les deux processus.Côte titre : MACH/0238 En ligne : https://drive.google.com/file/d/1o5eqmE-q6uV-YeMW-hy-l1paXsw9cko2/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité MACH/0238 MACH/0238 Mémoire Bibliothéque des sciences Français Disponible
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