Etude des domaines de stabilité des phases à l’état solide du système Ni Mo Si / Mokrani ,Nadjet  

Public ISBD Titre : Etude des domaines de stabilité des phases à l’état solide du système Ni Mo Si Type de document : texte imprimé Auteurs : Mokrani ,Nadjet, Auteur ; Achour Derafa, Directeur de thèse Editeur : Setif:UFA Année de publication : 2020 Importance : 1 vol (39 f .) Format : 29 cm Langues : Français (fre) Catégories : Thèses & Mémoires:Physique Mots-clés : Physique des Matériaux Index. décimale : 530 - Physique Résumé : Dans ce travail, l'effet du Mo comme troisième élément sur la séquence et la formation du siliciure de Ni dans le système Ni (Mo) / Si (100) sont étudiés. La diffraction des rayons X, et résistivité quatre pointes ont été utilisées pour étudier la séquence des phases, la cinétique, la stabilité des intervalles des siliciures et la résistivité à basse température. Les mesures DRX montrent que la présence de l'élément Mo dans la formation de siliciure de Ni entraîne la formation de -Ni2Si et NiSi, et indiquent un changement de séquence de phase. La phase NiSi apparaît en fin de consommation de Ni en même temps que la formation de la phase δ-Ni2Si. La température de formation de la phase NiSi2 est retardée à haute température dans le cas d'une couche intermédiaire jusqu'à 2nm Mo ou jusqu'à 5% d'alliage Mo. Les mesures Rs confirment la formation d'une phase faiblement résistive. Cependant, l'ajout de 5nm Mo, comme couche intermédiaire, conduit à la suppression de toute la phase riche en Ni. À haute température, la DRX montre que la formation de phases MoSi2 a une structure hexagonale dans tous les échantillons d'intercalaire Mo ou d'alliage Mo. Côte titre : MAPH/0366 En ligne : https://drive.google.com/file/d/1dL8zCSiHKHGOEroCLxgcr1yZEZLyjD17/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : pdf Etude des domaines de stabilité des phases à l’état solide du système Ni Mo Si [texte imprimé] / Mokrani ,Nadjet, Auteur ; Achour Derafa, Directeur de thèse . - [S.l.] : Setif:UFA, 2020 . - 1 vol (39 f .) ; 29 cm. Langues : Français (fre) Catégories : Thèses & Mémoires:Physique Mots-clés : Physique des Matériaux Index. décimale : 530 - Physique Résumé : Dans ce travail, l'effet du Mo comme troisième élément sur la séquence et la formation du siliciure de Ni dans le système Ni (Mo) / Si (100) sont étudiés. La diffraction des rayons X, et résistivité quatre pointes ont été utilisées pour étudier la séquence des phases, la cinétique, la stabilité des intervalles des siliciures et la résistivité à basse température. Les mesures DRX montrent que la présence de l'élément Mo dans la formation de siliciure de Ni entraîne la formation de -Ni2Si et NiSi, et indiquent un changement de séquence de phase. La phase NiSi apparaît en fin de consommation de Ni en même temps que la formation de la phase δ-Ni2Si. La température de formation de la phase NiSi2 est retardée à haute température dans le cas d'une couche intermédiaire jusqu'à 2nm Mo ou jusqu'à 5% d'alliage Mo. Les mesures Rs confirment la formation d'une phase faiblement résistive. Cependant, l'ajout de 5nm Mo, comme couche intermédiaire, conduit à la suppression de toute la phase riche en Ni. À haute température, la DRX montre que la formation de phases MoSi2 a une structure hexagonale dans tous les échantillons d'intercalaire Mo ou d'alliage Mo. Côte titre : MAPH/0366 En ligne : https://drive.google.com/file/d/1dL8zCSiHKHGOEroCLxgcr1yZEZLyjD17/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : pdf

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Code-barres	Cote	Support	Localisation	Section	Disponibilité
MAPH/0366	MAPH/0366	Mémoire	Bibliothéque des sciences	Français	Disponible Disponible

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