Etude isothermique des siliciures de nickel (50 nm) /si (111 / Bouthaina Ferdi  

Public ISBD Titre : Etude isothermique des siliciures de nickel (50 nm) /si (111 Type de document : texte imprimé Auteurs : Bouthaina Ferdi, Auteur ; Achour Derafa, Directeur de thèse Année de publication : 2022 Importance : 1 vol (48 f.) Langues : Français (fre) Catégories : Physique Mots-clés : Silicium Nickel Siliciure Index. décimale : 530-Physique Résumé : Le présent travail porte sur l’étude de formation de siliciures de nickel à partir du système Ni(50nm) / Si (111). Les l’échantillon sont obtenir par le dépôt d’un film métallique de nickel par pulvérisation cathodique sous vide sur substrat de silicium monocristallin orienté (111), pour amorcer la réaction de siliciuration en phase solide, ces échenillions ont subi un recuit isotherme (245°C) Nous avons utilisé quatres techniques de caractérisations, à savoir la diffraction des rayons X (DRX), la microscopie électronique à balayage (MEB), la spectrométrie à dispersion d’énergie (EDS), la microscopie a force atomique (AFM) pour suivre l’évolution de nos échenillions en fonction recuit isotherme subi. Après l’analyse des résultats obtenus nous avons remarqué que la formation des siliciures est observable à partir de 90 min par la présence de la phase Ni2Si et le début de formation de la phase NiSi qui devient majoritaire à 1040 min. Les images de MEB nous a permis de constater l’évolution de l’état de la surface de nous échenillions. Côte titre : MAPH/0531 En ligne : https://drive.google.com/file/d/1PhJUOgSqIy_-1ynx0udvLOq78HdmDBRT/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : pdf Etude isothermique des siliciures de nickel (50 nm) /si (111 [texte imprimé] / Bouthaina Ferdi, Auteur ; Achour Derafa, Directeur de thèse . - 2022 . - 1 vol (48 f.). Langues : Français (fre) Catégories : Physique Mots-clés : Silicium Nickel Siliciure Index. décimale : 530-Physique Résumé : Le présent travail porte sur l’étude de formation de siliciures de nickel à partir du système Ni(50nm) / Si (111). Les l’échantillon sont obtenir par le dépôt d’un film métallique de nickel par pulvérisation cathodique sous vide sur substrat de silicium monocristallin orienté (111), pour amorcer la réaction de siliciuration en phase solide, ces échenillions ont subi un recuit isotherme (245°C) Nous avons utilisé quatres techniques de caractérisations, à savoir la diffraction des rayons X (DRX), la microscopie électronique à balayage (MEB), la spectrométrie à dispersion d’énergie (EDS), la microscopie a force atomique (AFM) pour suivre l’évolution de nos échenillions en fonction recuit isotherme subi. Après l’analyse des résultats obtenus nous avons remarqué que la formation des siliciures est observable à partir de 90 min par la présence de la phase Ni2Si et le début de formation de la phase NiSi qui devient majoritaire à 1040 min. Les images de MEB nous a permis de constater l’évolution de l’état de la surface de nous échenillions. Côte titre : MAPH/0531 En ligne : https://drive.google.com/file/d/1PhJUOgSqIy_-1ynx0udvLOq78HdmDBRT/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : pdf

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Code-barres	Cote	Support	Localisation	Section	Disponibilité
MAPH/0531	MAPH/0531	Mémoire	Bibliothéque des sciences	Français	Disponible Disponible

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