Dépôts physiques / Lech Pawlowski

Public ISBD Titre : Dépôts physiques : techniques, microstructures et propriétés Type de document : texte imprimé Auteurs : Lech Pawlowski, Auteur Editeur : Lausanne : Presses polytechniques et universitaires romandes Année de publication : 2003 Autre Editeur : [Paris] : diff. Géodif Collection : Matériaux (Lausanne) Importance : 1 vol. (305 p.) Présentation : ill., couv. ill. en coul. Format : 24 cm ISBN/ISSN/EAN : 978-2-88074-529-5 Note générale : Notes bibliogr. Glossaire. Index Langues : Français (fre) Catégories : Physique Mots-clés : Traitements de surface -- Applications industrielles Revêtement de surface Surfaces (technologie) Dépôts physiques Index. décimale : 620.44 Technologie des surfaces Résumé : Cet ouvrage est une synthèse pédagogique des connaissances actuelles dans les domaines de dépôts par voie sèche. Le plan du livre suit la logique de la réalisation d'un dépôt : préparation de la surface, les différentes techniques de dépôt, la croissance des dépôts et les post-traitement, les méthodes de caractérisation. Le dernier chapitre présente les principales propriétés des dépôts en fonction du matériau et de la technique de dépôt, ainsi que des exemples illustratifs d'applications industrielles. Cet ouvrage présente l'ensemble des techniques physiques disponibles. Etudiants, chercheurs et professeurs en traitement de surface, spécialistes et utilisateurs des dépôts protecteurs. L'ouvrage n'exige comme prérequis que des connaissances fondamentales en physique générale et en science des matériaux. Note de contenu : Sommaire Introduction générale Préparation du substrat avant dépôt Techniques de dépôt Nucléation, croissance et microstructure Méthodes de caractérisation des dépôts Propriétés des dépôts Conclusions générales Annexes Dépôts physiques : techniques, microstructures et propriétés [texte imprimé] / Lech Pawlowski, Auteur . - Lausanne : Presses polytechniques et universitaires romandes : [Paris] : diff. Géodif, 2003 . - 1 vol. (305 p.) : ill., couv. ill. en coul. ; 24 cm. - (Matériaux (Lausanne)) . ISBN : 978-2-88074-529-5 Notes bibliogr. Glossaire. Index Langues : Français (fre) Catégories : Physique Mots-clés : Traitements de surface -- Applications industrielles Revêtement de surface Surfaces (technologie) Dépôts physiques Index. décimale : 620.44 Technologie des surfaces Résumé : Cet ouvrage est une synthèse pédagogique des connaissances actuelles dans les domaines de dépôts par voie sèche. Le plan du livre suit la logique de la réalisation d'un dépôt : préparation de la surface, les différentes techniques de dépôt, la croissance des dépôts et les post-traitement, les méthodes de caractérisation. Le dernier chapitre présente les principales propriétés des dépôts en fonction du matériau et de la technique de dépôt, ainsi que des exemples illustratifs d'applications industrielles. Cet ouvrage présente l'ensemble des techniques physiques disponibles. Etudiants, chercheurs et professeurs en traitement de surface, spécialistes et utilisateurs des dépôts protecteurs. L'ouvrage n'exige comme prérequis que des connaissances fondamentales en physique générale et en science des matériaux. Note de contenu : Sommaire Introduction générale Préparation du substrat avant dépôt Techniques de dépôt Nucléation, croissance et microstructure Méthodes de caractérisation des dépôts Propriétés des dépôts Conclusions générales Annexes

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Procédés chimiques de dépôt à partir d'une phase gazeuse / Yves Pauleau

Public ISBD Titre : Procédés chimiques de dépôt à partir d'une phase gazeuse Type de document : texte imprimé Auteurs : Yves Pauleau (1942-....), Auteur Editeur : Paris : Hermès science publications Année de publication : 2004 Importance : 415 p. Présentation : ill. Format : 24 cm ISBN/ISSN/EAN : 978-2-7462-0948-0 Prix : 95 EUR Note générale : Bibliogr. p. 403-411. Index Langues : Français (fre) Catégories : Chimie Mots-clés : Dépôt de couches minces Procédés CVD Index. décimale : 620.44 Technologie des surfaces Résumé : Cet ouvrage traite des procédés de dépôt de couches minces et de revêtements de surface par réaction chimique à partir d'une phase gazeuse. Ces procédés CVD (Chemical Vapor Deposition) sont utilisés au niveau industriel pour la fabrication des dispositifs semi-conducteurs (circuits intégrés) ou la production de revêtements protecteurs (anti-usure, anti-corrosion, anti-frottement). Ce livre est constitué de trois parties principales traitant chacune d'une famille particulière de procédés qu'on peut distinguer suivant le mode d'activation de la réaction chimique mise en jeu : activation thermique, activation par plasma (plasma-enhanced CVD) et activation par un faisceau de photons (procédés photo- CVD et laser-induced CVD). Le contenu de cet ouvrage intéresse le personnel technique, les ingénieurs et chercheurs qui travaillent dans le secteur recherche et développement ainsi que dans le secteur production de couches minces ou de revêtements de surface. Les étudiants d'IUT et d'écoles d'ingénieurs trouveront également les principes, les modèles et les principales données fondamentales concernant les procédés CVD couramment utilisés au niveau industriel. Note de contenu : Sommaire Avant-Propos Présentation générale des procédés I. Procédés CVD thermiquement activés Étude thermodynamique Régimes d'écoulement gazeux Dynamique de l'écoulement gazeux Cinétique de croissance des couches limitée par le transfert de matière en phase gazeuse Cinétique de croissance des couches limitée par les processus de surface Influence du transfert de matière sur la morphologie des couches déposées Procédés chimiques de dépôt sélectif II. Procédés CVD activés par plasma Décharge électrique dans un gaz sous basse pression Procédés d'ionisation d'un gaz sous basse pression Principes et applications des procédés CVD activés par plasma III. Procédés CVD activés par un faisceau de photons Procédés photochimiques de dépôt Procédés de dépôt sous irradiation laser Conclusion Côte titre : Fs/2001-2007 Procédés chimiques de dépôt à partir d'une phase gazeuse [texte imprimé] / Yves Pauleau (1942-....), Auteur . - Paris : Hermès science publications, 2004 . - 415 p. : ill. ; 24 cm. ISBN : 978-2-7462-0948-0 : 95 EUR Bibliogr. p. 403-411. Index Langues : Français (fre) Catégories : Chimie Mots-clés : Dépôt de couches minces Procédés CVD Index. décimale : 620.44 Technologie des surfaces Résumé : Cet ouvrage traite des procédés de dépôt de couches minces et de revêtements de surface par réaction chimique à partir d'une phase gazeuse. Ces procédés CVD (Chemical Vapor Deposition) sont utilisés au niveau industriel pour la fabrication des dispositifs semi-conducteurs (circuits intégrés) ou la production de revêtements protecteurs (anti-usure, anti-corrosion, anti-frottement). Ce livre est constitué de trois parties principales traitant chacune d'une famille particulière de procédés qu'on peut distinguer suivant le mode d'activation de la réaction chimique mise en jeu : activation thermique, activation par plasma (plasma-enhanced CVD) et activation par un faisceau de photons (procédés photo- CVD et laser-induced CVD). Le contenu de cet ouvrage intéresse le personnel technique, les ingénieurs et chercheurs qui travaillent dans le secteur recherche et développement ainsi que dans le secteur production de couches minces ou de revêtements de surface. Les étudiants d'IUT et d'écoles d'ingénieurs trouveront également les principes, les modèles et les principales données fondamentales concernant les procédés CVD couramment utilisés au niveau industriel. Note de contenu : Sommaire Avant-Propos Présentation générale des procédés I. Procédés CVD thermiquement activés Étude thermodynamique Régimes d'écoulement gazeux Dynamique de l'écoulement gazeux Cinétique de croissance des couches limitée par le transfert de matière en phase gazeuse Cinétique de croissance des couches limitée par les processus de surface Influence du transfert de matière sur la morphologie des couches déposées Procédés chimiques de dépôt sélectif II. Procédés CVD activés par plasma Décharge électrique dans un gaz sous basse pression Procédés d'ionisation d'un gaz sous basse pression Principes et applications des procédés CVD activés par plasma III. Procédés CVD activés par un faisceau de photons Procédés photochimiques de dépôt Procédés de dépôt sous irradiation laser Conclusion Côte titre : Fs/2001-2007

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Surface analysis methods in materials science / O'CONNOR,D.J.

Public ISBD Titre : Surface analysis methods in materials science Type de document : texte imprimé Auteurs : O'CONNOR,D.J. ; SEXTON,B.A. Editeur : Berlin : Springer Année de publication : 2003 Collection : Surface sciences Importance : 1 vol. (585 p.) Format : 24 ISBN/ISSN/EAN : 978-3-540-41330-1 Note générale : Index,bibliogr. Catégories : Physique Mots-clés : Surfaces (physique) Matériaux : Analyse Surfaces (technologie) : Analyse Index. décimale : 620.44 Technologie des surfaces Résumé : Ce guide sur l'utilisation des techniques d'analyse de surface, maintenant dans sa deuxième édition, s'est développé pour inclure plus de techniques, des applications actuelles et des références mises à jour. Il décrit l'application des techniques d'analyse de surface à un large éventail d'études en sciences et en génie des matériaux. Le livre se compose de trois parties: une introduction approfondie, une section de techniques et une section sur les applications. Chaque chapitre a été écrit par des spécialistes dans le domaine. Ce livre s'adresse aux scientifiques industriels et aux ingénieurs de la R & D qui cherchent une description des techniques disponibles dans un style concis mais instructif. Il est précieux en tant que texte complet pour les scientifiques et les ingénieurs qui suivent des cours de formation et des ateliers. Le niveau et le contenu de ce livre le rendent idéal en tant que texte de cours pour les étudiants seniors et étudiants de premier cycle en sciences des matériaux, en génie des matériaux, en physique, en chimie et en métallurgie. Note de contenu : Contents Introduction Solid Surfaces, Their Structure and Composition UHV Basics Techniques Electron Microscope Techniques for Surface Characterization Sputter Depth Profiling SIMS Auger Electron Spectroscopy and Microscopy - Techniques and Applications X-Ray Photoelectron Spectroscopy Vibrational Spectroscopy of Surfaces Rutherford Backscattering Spectrometry and Nuclear Reaction Analysis Materials Characterization by Scanned Probe Analysis Low Energy Ion Scattering Reflection High Energy Electron Diffraction Low Energy Electron Diffraction Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy of Solids Processes and Applications Minerals, Ceramics and Glasses Characterization of Catalysts by Surface Analysis Application to Semiconductor Devices Characterization of Oxidised Surfaces Coated Steel Thin Films Analysis Identification of Adsorbed Species Surface Analysis of Polymers Glow Discharge Optical Emission Spectrometry Appendix Surface analysis methods in materials science [texte imprimé] / O'CONNOR,D.J. ; SEXTON,B.A. . - Berlin : Springer, 2003 . - 1 vol. (585 p.) ; 24. - (Surface sciences) . ISBN : 978-3-540-41330-1 Index,bibliogr. Catégories : Physique Mots-clés : Surfaces (physique) Matériaux : Analyse Surfaces (technologie) : Analyse Index. décimale : 620.44 Technologie des surfaces Résumé : Ce guide sur l'utilisation des techniques d'analyse de surface, maintenant dans sa deuxième édition, s'est développé pour inclure plus de techniques, des applications actuelles et des références mises à jour. Il décrit l'application des techniques d'analyse de surface à un large éventail d'études en sciences et en génie des matériaux. Le livre se compose de trois parties: une introduction approfondie, une section de techniques et une section sur les applications. Chaque chapitre a été écrit par des spécialistes dans le domaine. Ce livre s'adresse aux scientifiques industriels et aux ingénieurs de la R & D qui cherchent une description des techniques disponibles dans un style concis mais instructif. Il est précieux en tant que texte complet pour les scientifiques et les ingénieurs qui suivent des cours de formation et des ateliers. Le niveau et le contenu de ce livre le rendent idéal en tant que texte de cours pour les étudiants seniors et étudiants de premier cycle en sciences des matériaux, en génie des matériaux, en physique, en chimie et en métallurgie. Note de contenu : Contents Introduction Solid Surfaces, Their Structure and Composition UHV Basics Techniques Electron Microscope Techniques for Surface Characterization Sputter Depth Profiling SIMS Auger Electron Spectroscopy and Microscopy - Techniques and Applications X-Ray Photoelectron Spectroscopy Vibrational Spectroscopy of Surfaces Rutherford Backscattering Spectrometry and Nuclear Reaction Analysis Materials Characterization by Scanned Probe Analysis Low Energy Ion Scattering Reflection High Energy Electron Diffraction Low Energy Electron Diffraction Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy of Solids Processes and Applications Minerals, Ceramics and Glasses Characterization of Catalysts by Surface Analysis Application to Semiconductor Devices Characterization of Oxidised Surfaces Coated Steel Thin Films Analysis Identification of Adsorbed Species Surface Analysis of Polymers Glow Discharge Optical Emission Spectrometry Appendix

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Fs/1597	Fs/1597-1598	Livre	Bibliothéque des sciences	Français	Disponible Disponible
Fs/1598	Fs/1597-1598	Livre	Bibliothéque des sciences	Français	Disponible Disponible

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