|
| Titre : |
La validation de méthode en Spectrométrie d'émission atomique à source plasma : De l'échantillon au résultat |
| Type de document : |
texte imprimé |
| Auteurs : |
Fabien Pilon ; Alexandre Labet ; Karine Vielle |
| Editeur : |
Les Ulis : EDP sciences |
| Année de publication : |
2017 |
| Importance : |
1 vol. (307 p.) |
| ISBN/ISSN/EAN : |
978-2-7598-2062-7 |
| Langues : |
Français (fre) |
| Catégories : |
Physique
|
| Mots-clés : |
Spectroscopie |
| Index. décimale : |
535.8 Applications optiques, spectroscopie |
| Résumé : |
L'analyse élémentaire a connu des développements instrumentaux majeurs depuis les années 70. C'est tout particulièrement le cas avec la spectrométrie d'émission atomique à source plasma (ICP-OES), commercialisée pour la première fois en 1974, et qui s'est rapidement imposée en se déployant très largement dans les laboratoires de caractérisation.
Bien que l'ICP-OES soit devenue une technique d'analyse de routine, les exigences de la mesure imposent une maîtrise complète du processus opératoire et du système de management de la qualité associé.
L'objectif de cet ouvrage est de guider l'analyste durant tout le processus de validation de sa mesure et de l'aider à garantir la maîtrise de ses principales étapes : gestion administrative et physique des échantillons au laboratoire ; préparation et traitement de ceux-ci avant mesure ; qualification et suivi de l'appareillage ; réglages instrumentaux et stratégie d'étalonnage ; exploitation des résultats en termes de justesse, fidélité, incertitude et exactitude (avec la détermination pratique du « profil d'exactitude »). Le guide s'appuie pour cela sur la terminologie la plus actuelle et sur de nombreux exemples et illustrations destinés à faciliter la compréhension et la constitution des dossiers de validation de méthode.
Cet ouvrage collectif a été constitué dans le cadre des travaux de la Commission d'Etablissement des Méthodes d'Analyses du Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives. Trente-huit spécialistes de l'ICP-OES, travaillant dans des laboratoires de recherches de grands organismes (AREVA, ARKEMA, CEA, C2RMF, EDF, EURODIF, IRSN) et d'Universités (Université de Pau et des Pays de l'Adour, Université Claude Bernard Lyon 1), y ont contribué durant plus de dix ans. |
| Note de contenu : |
Sommaire
Liste des abréviations, sigles et acronymes 27
Chapitre 1
Introduction 31
1 Principes fondamentaux de l’ICP-OES 33
1.1 Excitation et relaxation 33
1.2 Domaine de longueurs d’onde 34
1.3 Identification des raies 34
1.4 Définition d’un plasma 35
1.5 Gaz plasmagène (ou de refroidissement) 35
1.6 Mécanisme d’excitation dans un plasma du type ICP 35
2 Instrumentation 36
2.1 Genèse du plasma 36
2.2 Torche et mode d’observation 37
2.3 Systèmes d’introduction des échantillons 39
2.4 Spectromètres 39
2.4.1 Réseaux 39
2.4.2 Spectromètres 40
2.5 Détecteurs 40
2.5.1 Tubes photomultiplicateurs 41
2.5.2 Détection multicanal 41
Retrouver ce titre sur Numilog.com
La validation de méthode en spectrométrie d’émission optique à source plasma (ICP-OES)
3 Spectres observés 42
4 Mesures et interférences 43
4.1 Mesures 43
4.2 Description des interférences 43
4.2.1 Les interférences non-spectrales 43
4.2.2 Résolution des interférences non-spectrales 44
4.2.3 Les interférences spectrales 44
4.2.4 Résolution des interférences spectrales 45
5 Cahier des charges 46
6 Plan du livre 47
Chapitre 2 •
Définitions 49
1 Introduction 49
2 Matériau 50
2.1 Matrice et analyte 50
2.2 Vocabulaire associé aux concentrations des analytes 50
2.3 Échantillonnage 50
2.4 Échantillon 51
2.5 Prise d’essai 51
3 Processus de mesure 51
3.1 Mesurage 52
3.2 Mesurande & grandeur 52
3.3 Indication 52
3.4 Méthode & procédure 52
3.5 Résultat 53
3.6 Validation de la méthode de mesure 54
4 Procédure de mesure 54
4.1 Préparation des blancs 54
4.1.1 Blanc de matrice 54
4.1.2 Blanc de réactifs 55
4.1.3 Blanc instrumental 55
4.1.4 Blanc de méthode 55
4.2 Étalonnage 55
4.2.1 Définitions 55
4.2.2 Solution d’étalonnage 56
4.2.3 Solution de vérification 56
4.2.4 Dérive instrumentale 56
4.3 Mesurage 56
4.3.1 Signal (brut, net, stabilité) 56
Retrouver ce titre sur Numilog.com
Table des matières
4.3.2 Bruit 57
4.3.3 Correction de fond 57
4.3.4 Rapport signal sur bruit 58
4.3.5 Rapport signal sur fond 58
4.3.6 Répliques 58
4.3.7 Résolution spectrale et pouvoir de résolution 58
4.4 Résultat 58
4.4.1 Valeur d’une grandeur 58
4.4.2 Valeur vraie 59
4.4.3 Valeur de référence 59
5 Qualités analytiques 59
5.1 Erreurs 59
5.2 Exactitude 60
5.3 Justesse 61
5.4 Fidélité 61
5.5 Conditions de répétabilité 61
5.6 Répétabilité de mesure 61
5.7 Conditions de fidélité intermédiaire 61
5.8 Fidélité intermédiaire de mesure 62
5.9 Conditions de reproductibilité 62
5.10 Reproductibilité de mesure 62
5.11 Incertitude de mesure 62
5.12 Limite de détection 63
5.13 Limite de quantification 63
5.14 Linéarité 63
5.15 Robustesse 63
5.16 Sensibilité 64
5.17 Sélectivité 64
5.18 Traçabilité métrologique 64
Chapitre 3
Gestion des échantillons au laboratoire 65
1 Introduction 65
2 Gestion administrative 65
2.1 De la réception des échantillons à l’émission des résultats 65
2.2 Exigences normatives 67
2.3 Exemple de procédure 67
3 Gestion physique 71
3.1 Choix du conditionnement 71
3.2 Précautions de stockage 71
Retrouver ce titre sur Numilog.com
La validation de méthode en spectrométrie d’émission optique à source plasma (ICP-OES)
3.2.1 Causes d’instabilité 72
3.2.2 Parades possibles 73
3.3 Exemple de procédure 73
Chapitre 4
Préparation et traitement des échantillons
avant analyse 83
1 Introduction 83
2 Contraintes et précautions à prendre 86
3 La transformation solide – liquide 87
3.1 Les réactifs 87
3.1.1 L’eau 87
3.1.2 Les acides 87
3.1.3 Les fondants 88
3.1.4 Les solvants organiques 88
3.2 L’attaque acide 89
3.2.1 Principe 89
3.2.2 Spécificités des acides et de leurs mélanges 90
3.2.3 Le matériel associé 93
3.2.4 Des étapes préliminaires possibles : la fusion alcaline
le frittage, la calcination 94
3.2.5 Exemples de préparation avec attaque acide 96
4 L’extraction liquide – liquide 100
5 La transformation liquide – gaz 101
Chapitre 5
Qualification et suivi de l’appareillage 103
1 Principe général des tests de qualification 104
2 Qualification de l’installation 105
2.1 Temps de stabilisation 106
2.1.1 Procédure 106
2.1.2 Résultats 106
2.2 Stabilité à long terme 107
2.2.1 Procédure 107
2.2.2 Résultats 107
2.3 Transfert d’énergie 108
2.3.1 Procédure 109
2.3.2 Résultats 109
2.4 Sensibilité et répétabilité 110
2.4.1 Procédures 110
2.5 Limite de détection 111
2.5.1 Procédure 111
2.5.2 Résultats 112
3 Résolution 112
4 Temps de dépollution 113
5 Qualification opérationnelle 114
5.1 Tests de premier niveau 114
5.1.1 Performances de l’appareil 114
5.1.2 Propreté de l’appareil 115
5.2 Tests de deuxième niveau 115
5.2.1 Conditions énergétiques du plasma 116
5.2.2 Efficacité et répétabilité de la nébulisation 116
5.2.3 Résolution 117
5.2.4 Propreté de l’optique 117
5.2.5 Performances 117
5.3 Tests de troisième niveau 119
6 Qualification de performances 120
7 Conclusion 121
Chapitre 6
Réglages instrumentaux et stratégie d’étalonnage 123
1 Les paramètres opératoires 123
1.1 Paramètres instrumentaux 124
1.1.1 Systèmes d’introduction 124
1.1.2 Les conditions de plasma 139
1.2 Paramètres d’acquisition et d’exploitation des signaux 145
1.2.1 Temps d’intégration 145
1.2.2 Nombre de répliques 148
1.2.3 Mode d’intégration (surface/hauteur) et nombre de points 151
1.2.4 Exploitation du signal (intensité brute/nette, correction
de fond) 157
1.2.5 Sélection des raies et problématiques associées 158
2 Les paramètres liés à la prise en compte des effets de matrice 160
2.1 Notion de robustesse 161
2.2 Changement de la répartition spatiale de l’analyte 162
2.3 Robustesse et effet dépressif dans la zone d’observation 164
2.4 Tests pour vérifier un effet dépressif identique pour tous
les analytes 164
2.5 Étalonnage interne 166
2.6 Conclusion 167
Retrouver ce titre sur Numilog.com
La validation de méthode en spectrométrie d’émission optique à source plasma (ICP-OES)
3 Les paramètres associés à l’étalonnage 167
3.1 Rappels théoriques 168
3.1.1 Principe de l’étalonnage 168
3.1.2 Régression linéaire 168
3.1.3 Vérification de la linéarité 171
3.1.4 Observation des résidus 177
3.1.5 Incertitude sur la concentration 178
3.1.6 Pondération 187
3.1.7 Autres types de régression 192
3.1.8 Réétalonnage 199
3.2 Applications 201
3.2.1 Comparaison des mesures indépendantes
et dépendantes 201
3.2.2 Influence de la pondération 202
3.2.3 Influence du nombre d’étalons 209
3.2.4 Phénomènes de courbure 211
3.2.5 Optimisation 218
3.3 Conclusion 220
Chapitre 7
Exploitation des résultats 223
1 Évaluation de la justesse, de la fidélité et des incertitudes 223
1.1 Évaluation de la justesse 223
1.1.1 À partir de matériaux de référence 224
1.1.2 Sans matériau de référence 226
1.2 Évaluation de la fidélité 227
1.3 Évaluation de la reproductibilité 227
1.4 Évaluation des incertitudes 228
1.4.1 Introduction 228
1.4.2 Rappel des notions de base : estimation
des incertitudes élargies 228
1.4.3 Incertitude liée à un pipetage 230
1.4.4 Incertitude liée à un ajustement de volume 232
1.4.5 Incertitude liée à une pesée 234
1.4.6 Application à une mesure en ICP-OES 235
1.4.7 Conclusion 237
2 Détermination des limites de détection et de quantification 237
2.1 Limite de détection 237
2.1.1 Signal 237
2.1.2 Bruit 239
Retrouver ce titre sur Numilog.com
Table des matières
2.1.3 Courbe de Gauss 239
2.1.4 Signal et concentration minimale, méthode « 3sB » 241
2.2 Détermination de la limite de quantification 243
2.2.1 Limite de détermination dite « 10sB » 243
2.2.2 Limite de quantification fondée sur l’estimation
de l’écart-type relatif du signal net 244
2.2.3 Limite de quantification fondée sur l’exactitude 246
2.2.4 Limite de quantification résultant de la procédure
d’étalonnage 248
2.2.5 Démarche pour la détermination de la limite
de quantification 250
2.3 Conclusion 254
3 Établissement du profil d’exactitude 255
3.1 Justesse 255
3.2 Fidélité 256
3.3 Profil d’exactitude 256
3.4 Évaluation de l’exactitude 257
3.4.1 Composants de la fidélité intermédiaire 257
3.4.2 Calcul des variances 257
3.4.3 Facteur d’élargissement ks 260
3.4.4 Incertitude sur le biais 261
3.4.5 Application aux limites de tolérance 262
3.4.6 Limites d’acceptabilité 263
3.4.7 Essais interlaboratoires 264
3.4.8 Détermination pratique du profil d’exactitude 265
3.5 Exemples de résultats intralaboratoires 266
3.5.1 Comportements typiques 266
3.5.2 Influence de la pondération de la droite d’étalonnage 266
3.5.3 Variabilité en fonction des laboratoires 268
3.5.4 Comparaison des limites de quantification 270
3.6 Conclusions 271
Chapitre 8
Dossier de validation 273
1 Définition d’un dossier de validation 273
2 Exemple 275
3 Matériel 275
3.1 Appareillage 275
3.2 Réactifs et produits 276
3.2.1 Eau ultrapure 276
Retrouver ce titre sur Numilog.com
La validation de méthode en spectrométrie d’émission optique à source plasma (ICP-OES)
3.2.2 Solutions étalons 276
3.2.3 Solution de vérification d’étalonnage 276
3.3 Conditions opératoires 277
4 Programme de validation 278
4.1 Plan d’étalonnage et plan de validation 278
4.2 Critères statistiques 279
5 Résultats 280
5.1 Sodium 280
5.1.1 Étude antérieure : détermination de la LQ
par la norme XP T90-210 [93] 280
5.1.2 Construction du profil d’exactitude 280
5.2 Nickel 283
5.2.1 Étude antérieure : détermination de la LQ 283
5.2.2 Construction du profil d’exactitude 283
5.3 Autres éléments 285
6 Conclusion 288
Chapitre 9
Conclusion 291
Bibliographie 293
Les coordinateurs 304
Les contributeurs2.4.2 Résultats
|
| Côte titre : |
Fs/19646 |
La validation de méthode en Spectrométrie d'émission atomique à source plasma : De l'échantillon au résultat [texte imprimé] / Fabien Pilon ; Alexandre Labet ; Karine Vielle . - Les Ulis : EDP sciences, 2017 . - 1 vol. (307 p.). ISBN : 978-2-7598-2062-7 Langues : Français ( fre)
| Catégories : |
Physique
|
| Mots-clés : |
Spectroscopie |
| Index. décimale : |
535.8 Applications optiques, spectroscopie |
| Résumé : |
L'analyse élémentaire a connu des développements instrumentaux majeurs depuis les années 70. C'est tout particulièrement le cas avec la spectrométrie d'émission atomique à source plasma (ICP-OES), commercialisée pour la première fois en 1974, et qui s'est rapidement imposée en se déployant très largement dans les laboratoires de caractérisation.
Bien que l'ICP-OES soit devenue une technique d'analyse de routine, les exigences de la mesure imposent une maîtrise complète du processus opératoire et du système de management de la qualité associé.
L'objectif de cet ouvrage est de guider l'analyste durant tout le processus de validation de sa mesure et de l'aider à garantir la maîtrise de ses principales étapes : gestion administrative et physique des échantillons au laboratoire ; préparation et traitement de ceux-ci avant mesure ; qualification et suivi de l'appareillage ; réglages instrumentaux et stratégie d'étalonnage ; exploitation des résultats en termes de justesse, fidélité, incertitude et exactitude (avec la détermination pratique du « profil d'exactitude »). Le guide s'appuie pour cela sur la terminologie la plus actuelle et sur de nombreux exemples et illustrations destinés à faciliter la compréhension et la constitution des dossiers de validation de méthode.
Cet ouvrage collectif a été constitué dans le cadre des travaux de la Commission d'Etablissement des Méthodes d'Analyses du Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives. Trente-huit spécialistes de l'ICP-OES, travaillant dans des laboratoires de recherches de grands organismes (AREVA, ARKEMA, CEA, C2RMF, EDF, EURODIF, IRSN) et d'Universités (Université de Pau et des Pays de l'Adour, Université Claude Bernard Lyon 1), y ont contribué durant plus de dix ans. |
| Note de contenu : |
Sommaire
Liste des abréviations, sigles et acronymes 27
Chapitre 1
Introduction 31
1 Principes fondamentaux de l’ICP-OES 33
1.1 Excitation et relaxation 33
1.2 Domaine de longueurs d’onde 34
1.3 Identification des raies 34
1.4 Définition d’un plasma 35
1.5 Gaz plasmagène (ou de refroidissement) 35
1.6 Mécanisme d’excitation dans un plasma du type ICP 35
2 Instrumentation 36
2.1 Genèse du plasma 36
2.2 Torche et mode d’observation 37
2.3 Systèmes d’introduction des échantillons 39
2.4 Spectromètres 39
2.4.1 Réseaux 39
2.4.2 Spectromètres 40
2.5 Détecteurs 40
2.5.1 Tubes photomultiplicateurs 41
2.5.2 Détection multicanal 41
Retrouver ce titre sur Numilog.com
La validation de méthode en spectrométrie d’émission optique à source plasma (ICP-OES)
3 Spectres observés 42
4 Mesures et interférences 43
4.1 Mesures 43
4.2 Description des interférences 43
4.2.1 Les interférences non-spectrales 43
4.2.2 Résolution des interférences non-spectrales 44
4.2.3 Les interférences spectrales 44
4.2.4 Résolution des interférences spectrales 45
5 Cahier des charges 46
6 Plan du livre 47
Chapitre 2 •
Définitions 49
1 Introduction 49
2 Matériau 50
2.1 Matrice et analyte 50
2.2 Vocabulaire associé aux concentrations des analytes 50
2.3 Échantillonnage 50
2.4 Échantillon 51
2.5 Prise d’essai 51
3 Processus de mesure 51
3.1 Mesurage 52
3.2 Mesurande & grandeur 52
3.3 Indication 52
3.4 Méthode & procédure 52
3.5 Résultat 53
3.6 Validation de la méthode de mesure 54
4 Procédure de mesure 54
4.1 Préparation des blancs 54
4.1.1 Blanc de matrice 54
4.1.2 Blanc de réactifs 55
4.1.3 Blanc instrumental 55
4.1.4 Blanc de méthode 55
4.2 Étalonnage 55
4.2.1 Définitions 55
4.2.2 Solution d’étalonnage 56
4.2.3 Solution de vérification 56
4.2.4 Dérive instrumentale 56
4.3 Mesurage 56
4.3.1 Signal (brut, net, stabilité) 56
Retrouver ce titre sur Numilog.com
Table des matières
4.3.2 Bruit 57
4.3.3 Correction de fond 57
4.3.4 Rapport signal sur bruit 58
4.3.5 Rapport signal sur fond 58
4.3.6 Répliques 58
4.3.7 Résolution spectrale et pouvoir de résolution 58
4.4 Résultat 58
4.4.1 Valeur d’une grandeur 58
4.4.2 Valeur vraie 59
4.4.3 Valeur de référence 59
5 Qualités analytiques 59
5.1 Erreurs 59
5.2 Exactitude 60
5.3 Justesse 61
5.4 Fidélité 61
5.5 Conditions de répétabilité 61
5.6 Répétabilité de mesure 61
5.7 Conditions de fidélité intermédiaire 61
5.8 Fidélité intermédiaire de mesure 62
5.9 Conditions de reproductibilité 62
5.10 Reproductibilité de mesure 62
5.11 Incertitude de mesure 62
5.12 Limite de détection 63
5.13 Limite de quantification 63
5.14 Linéarité 63
5.15 Robustesse 63
5.16 Sensibilité 64
5.17 Sélectivité 64
5.18 Traçabilité métrologique 64
Chapitre 3
Gestion des échantillons au laboratoire 65
1 Introduction 65
2 Gestion administrative 65
2.1 De la réception des échantillons à l’émission des résultats 65
2.2 Exigences normatives 67
2.3 Exemple de procédure 67
3 Gestion physique 71
3.1 Choix du conditionnement 71
3.2 Précautions de stockage 71
Retrouver ce titre sur Numilog.com
La validation de méthode en spectrométrie d’émission optique à source plasma (ICP-OES)
3.2.1 Causes d’instabilité 72
3.2.2 Parades possibles 73
3.3 Exemple de procédure 73
Chapitre 4
Préparation et traitement des échantillons
avant analyse 83
1 Introduction 83
2 Contraintes et précautions à prendre 86
3 La transformation solide – liquide 87
3.1 Les réactifs 87
3.1.1 L’eau 87
3.1.2 Les acides 87
3.1.3 Les fondants 88
3.1.4 Les solvants organiques 88
3.2 L’attaque acide 89
3.2.1 Principe 89
3.2.2 Spécificités des acides et de leurs mélanges 90
3.2.3 Le matériel associé 93
3.2.4 Des étapes préliminaires possibles : la fusion alcaline
le frittage, la calcination 94
3.2.5 Exemples de préparation avec attaque acide 96
4 L’extraction liquide – liquide 100
5 La transformation liquide – gaz 101
Chapitre 5
Qualification et suivi de l’appareillage 103
1 Principe général des tests de qualification 104
2 Qualification de l’installation 105
2.1 Temps de stabilisation 106
2.1.1 Procédure 106
2.1.2 Résultats 106
2.2 Stabilité à long terme 107
2.2.1 Procédure 107
2.2.2 Résultats 107
2.3 Transfert d’énergie 108
2.3.1 Procédure 109
2.3.2 Résultats 109
2.4 Sensibilité et répétabilité 110
2.4.1 Procédures 110
2.5 Limite de détection 111
2.5.1 Procédure 111
2.5.2 Résultats 112
3 Résolution 112
4 Temps de dépollution 113
5 Qualification opérationnelle 114
5.1 Tests de premier niveau 114
5.1.1 Performances de l’appareil 114
5.1.2 Propreté de l’appareil 115
5.2 Tests de deuxième niveau 115
5.2.1 Conditions énergétiques du plasma 116
5.2.2 Efficacité et répétabilité de la nébulisation 116
5.2.3 Résolution 117
5.2.4 Propreté de l’optique 117
5.2.5 Performances 117
5.3 Tests de troisième niveau 119
6 Qualification de performances 120
7 Conclusion 121
Chapitre 6
Réglages instrumentaux et stratégie d’étalonnage 123
1 Les paramètres opératoires 123
1.1 Paramètres instrumentaux 124
1.1.1 Systèmes d’introduction 124
1.1.2 Les conditions de plasma 139
1.2 Paramètres d’acquisition et d’exploitation des signaux 145
1.2.1 Temps d’intégration 145
1.2.2 Nombre de répliques 148
1.2.3 Mode d’intégration (surface/hauteur) et nombre de points 151
1.2.4 Exploitation du signal (intensité brute/nette, correction
de fond) 157
1.2.5 Sélection des raies et problématiques associées 158
2 Les paramètres liés à la prise en compte des effets de matrice 160
2.1 Notion de robustesse 161
2.2 Changement de la répartition spatiale de l’analyte 162
2.3 Robustesse et effet dépressif dans la zone d’observation 164
2.4 Tests pour vérifier un effet dépressif identique pour tous
les analytes 164
2.5 Étalonnage interne 166
2.6 Conclusion 167
Retrouver ce titre sur Numilog.com
La validation de méthode en spectrométrie d’émission optique à source plasma (ICP-OES)
3 Les paramètres associés à l’étalonnage 167
3.1 Rappels théoriques 168
3.1.1 Principe de l’étalonnage 168
3.1.2 Régression linéaire 168
3.1.3 Vérification de la linéarité 171
3.1.4 Observation des résidus 177
3.1.5 Incertitude sur la concentration 178
3.1.6 Pondération 187
3.1.7 Autres types de régression 192
3.1.8 Réétalonnage 199
3.2 Applications 201
3.2.1 Comparaison des mesures indépendantes
et dépendantes 201
3.2.2 Influence de la pondération 202
3.2.3 Influence du nombre d’étalons 209
3.2.4 Phénomènes de courbure 211
3.2.5 Optimisation 218
3.3 Conclusion 220
Chapitre 7
Exploitation des résultats 223
1 Évaluation de la justesse, de la fidélité et des incertitudes 223
1.1 Évaluation de la justesse 223
1.1.1 À partir de matériaux de référence 224
1.1.2 Sans matériau de référence 226
1.2 Évaluation de la fidélité 227
1.3 Évaluation de la reproductibilité 227
1.4 Évaluation des incertitudes 228
1.4.1 Introduction 228
1.4.2 Rappel des notions de base : estimation
des incertitudes élargies 228
1.4.3 Incertitude liée à un pipetage 230
1.4.4 Incertitude liée à un ajustement de volume 232
1.4.5 Incertitude liée à une pesée 234
1.4.6 Application à une mesure en ICP-OES 235
1.4.7 Conclusion 237
2 Détermination des limites de détection et de quantification 237
2.1 Limite de détection 237
2.1.1 Signal 237
2.1.2 Bruit 239
Retrouver ce titre sur Numilog.com
Table des matières
2.1.3 Courbe de Gauss 239
2.1.4 Signal et concentration minimale, méthode « 3sB » 241
2.2 Détermination de la limite de quantification 243
2.2.1 Limite de détermination dite « 10sB » 243
2.2.2 Limite de quantification fondée sur l’estimation
de l’écart-type relatif du signal net 244
2.2.3 Limite de quantification fondée sur l’exactitude 246
2.2.4 Limite de quantification résultant de la procédure
d’étalonnage 248
2.2.5 Démarche pour la détermination de la limite
de quantification 250
2.3 Conclusion 254
3 Établissement du profil d’exactitude 255
3.1 Justesse 255
3.2 Fidélité 256
3.3 Profil d’exactitude 256
3.4 Évaluation de l’exactitude 257
3.4.1 Composants de la fidélité intermédiaire 257
3.4.2 Calcul des variances 257
3.4.3 Facteur d’élargissement ks 260
3.4.4 Incertitude sur le biais 261
3.4.5 Application aux limites de tolérance 262
3.4.6 Limites d’acceptabilité 263
3.4.7 Essais interlaboratoires 264
3.4.8 Détermination pratique du profil d’exactitude 265
3.5 Exemples de résultats intralaboratoires 266
3.5.1 Comportements typiques 266
3.5.2 Influence de la pondération de la droite d’étalonnage 266
3.5.3 Variabilité en fonction des laboratoires 268
3.5.4 Comparaison des limites de quantification 270
3.6 Conclusions 271
Chapitre 8
Dossier de validation 273
1 Définition d’un dossier de validation 273
2 Exemple 275
3 Matériel 275
3.1 Appareillage 275
3.2 Réactifs et produits 276
3.2.1 Eau ultrapure 276
Retrouver ce titre sur Numilog.com
La validation de méthode en spectrométrie d’émission optique à source plasma (ICP-OES)
3.2.2 Solutions étalons 276
3.2.3 Solution de vérification d’étalonnage 276
3.3 Conditions opératoires 277
4 Programme de validation 278
4.1 Plan d’étalonnage et plan de validation 278
4.2 Critères statistiques 279
5 Résultats 280
5.1 Sodium 280
5.1.1 Étude antérieure : détermination de la LQ
par la norme XP T90-210 [93] 280
5.1.2 Construction du profil d’exactitude 280
5.2 Nickel 283
5.2.1 Étude antérieure : détermination de la LQ 283
5.2.2 Construction du profil d’exactitude 283
5.3 Autres éléments 285
6 Conclusion 288
Chapitre 9
Conclusion 291
Bibliographie 293
Les coordinateurs 304
Les contributeurs2.4.2 Résultats
|
| Côte titre : |
Fs/19646 |
|  |
Ajouter le résultat dans votre panier Affiner la recherche
