Etude de dopage électrochimique des nanostructures de Cu2O par les ions Chlorures / Bouriche, r.khalil  

Public ISBD Titre : Etude de dopage électrochimique des nanostructures de Cu2O par les ions Chlorures Type de document : texte imprimé Auteurs : Bouriche, r.khalil ; A Azizi, Directeur de thèse Editeur : Setif:UFA Année de publication : 2017 Importance : 1vol. (49f.) Format : 30cm. Catégories : Thèses & Mémoires:Chimie Mots-clés : etude,dopage,electrochimique,nanostructures,Cu2O,ions,chlorures Résumé : L’objectif principal de ce stage est d’utiliser la technique d’électrodéposition pour élaborer des nanostructures de Cu2O type-n par dopage aux ions Cl- à partir d’un bain de sulfate de cuivre. Les mesures de Mott-Schottky montrent une conductivité de type p pour le Cu2O non dopé et dopé avec 0.01 M en Cl-, et une conduction de type n pour le Cu2O dopé avec 0.01-0.02-0.03-0.04 M de KCl. On a utilisé les mesures de photo-courant pour confirmer les résultats de M-S. L’analyse par la diffraction des rayons X (DRX) a montré que tous les échantillons ont une structure cubique et présentent une orientation préférentielle selon l’axe (111). La caractérisation morphologique des échantillons par la microscopie à force atomique (AFM) montre une modification notable de la topographie avec une augmentation de la rugosité lors du dopage. La spectroscopie UV-Vis a été utilisée pour mesurer la transmittance dans une gamme spectrale de 300 à 1100 nm et par la suite les gaps optiques sont déduits. Note de contenu : Sommaire Liste des figures ....................................................................................................................II Liste des tableaux .................................................................................................................. V Introduction générale ........................................................................................................... 1 Chapitre I : Revue bibliographique I.1 Électrodéposition ....................................................................................................4 I.1.1 Notions sur l'électrodéposition ...........................................................................4 I.1.2 Mécanisme de l’électrodéposition ......................................................................5 I.1.3 Nucléation et croissance des dépôts électrochimiques ........................................5 I.2 Les Oxydes Transparents Conducteurs (TCO) .....................................................6 I.3 Présentation de L'oxyde cuivreux Cu2O ................................................................7 I.3.1 Présentation générale .........................................................................................7 I.3.2 Cu2O type p .......................................................................................................8 I.3.3 Cu2O type n .......................................................................................................9 I.4 Techniques d'élaboration de Cu2O ........................................................................9 I.5 Dopage du Cu2O ................................................................................................... 10 Références bibliographiques ............................................................................................. 11 Chapitre II : Techniques expérimentales II.1 Montage électrochimique ..................................................................................... 13 II.1.1 Cellule électrochimique ................................................................................... 13 II.1.2 Electrodes ....................................................................................................... 13 II.1.3 Nettoyage des substrats ................................................................................... 14 II.1.4 Préparation des solutions ................................................................................. 14 II.2 Techniques de caractérisation .............................................................................. 14 II.2.1 Voltammétrie cyclique .................................................................................... 14 II.2.2 Chronoampérométrie ....................................................................................... 15 II.2.3 Mesure de Mott-Schottky (M-S) ...................................................................... 16 II.2.4 Mesure du photo-courant ................................................................................. 17 II.2.5 Diffraction de rayons X (DRX) ....................................................................... 19 II.2.6 Microscope à force atomique (AFM) ............................................................... 20 II.2.7 Spectroscopie de l’absorption optique dans le domaine UV-Visible ................. 21 Références bibliographiques ............................................................................................. 24 Chapitre III : Résultats et Discussions III.1 Mécanisme de l’électrodéposition de Cu2O ......................................................... 25 III.2 Caractérisation électrochimique .......................................................................... 25 III.2.1 Voltammétrie cyclique (VC) ........................................................................... 25 III.2.1.1 Stabilité du substrat .................................................................................. 25 III.2.1.2 Comportement du substrat en présence des ions Cu2+ : ............................. 26 III.2.1.3 Effet de la borne cathodique ..................................................................... 27 III.2.1.4 Influence de la vitesse de balayage ........................................................... 28 III.2.1.5 Effet de la concentration des ions de Cl- sur la cinétique de Cu2O ............. 30 III.2.2 Chronoampérométrie ....................................................................................... 30 III.2.3 Mesure de Mott-Schottky (M-S) ...................................................................... 34 III.2.4 Mesure du photo-courant ................................................................................. 37 III.3 Etude structurale par diffraction des rayons X .................................................. 38 III.4 Caractérisations morphologique par microscopie à force atomique .................. 40 III.5 Caractérisations optiques par spectrophotomètre UV-Visible ........................... 43 Références bibliographiques ............................................................................................. 49 Conclusion .......................................................................................................................... 49 Côte titre : MACH/0059 En ligne : https://drive.google.com/file/d/1u3NETKlVT7nEj8EZ-VO7AHgCFaMPHALM/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : pdf Etude de dopage électrochimique des nanostructures de Cu2O par les ions Chlorures [texte imprimé] / Bouriche, r.khalil ; A Azizi, Directeur de thèse . - [S.l.] : Setif:UFA, 2017 . - 1vol. (49f.) ; 30cm. Catégories : Thèses & Mémoires:Chimie Mots-clés : etude,dopage,electrochimique,nanostructures,Cu2O,ions,chlorures Résumé : L’objectif principal de ce stage est d’utiliser la technique d’électrodéposition pour élaborer des nanostructures de Cu2O type-n par dopage aux ions Cl- à partir d’un bain de sulfate de cuivre. Les mesures de Mott-Schottky montrent une conductivité de type p pour le Cu2O non dopé et dopé avec 0.01 M en Cl-, et une conduction de type n pour le Cu2O dopé avec 0.01-0.02-0.03-0.04 M de KCl. On a utilisé les mesures de photo-courant pour confirmer les résultats de M-S. L’analyse par la diffraction des rayons X (DRX) a montré que tous les échantillons ont une structure cubique et présentent une orientation préférentielle selon l’axe (111). La caractérisation morphologique des échantillons par la microscopie à force atomique (AFM) montre une modification notable de la topographie avec une augmentation de la rugosité lors du dopage. La spectroscopie UV-Vis a été utilisée pour mesurer la transmittance dans une gamme spectrale de 300 à 1100 nm et par la suite les gaps optiques sont déduits. Note de contenu : Sommaire Liste des figures ....................................................................................................................II Liste des tableaux .................................................................................................................. V Introduction générale ........................................................................................................... 1 Chapitre I : Revue bibliographique I.1 Électrodéposition ....................................................................................................4 I.1.1 Notions sur l'électrodéposition ...........................................................................4 I.1.2 Mécanisme de l’électrodéposition ......................................................................5 I.1.3 Nucléation et croissance des dépôts électrochimiques ........................................5 I.2 Les Oxydes Transparents Conducteurs (TCO) .....................................................6 I.3 Présentation de L'oxyde cuivreux Cu2O ................................................................7 I.3.1 Présentation générale .........................................................................................7 I.3.2 Cu2O type p .......................................................................................................8 I.3.3 Cu2O type n .......................................................................................................9 I.4 Techniques d'élaboration de Cu2O ........................................................................9 I.5 Dopage du Cu2O ................................................................................................... 10 Références bibliographiques ............................................................................................. 11 Chapitre II : Techniques expérimentales II.1 Montage électrochimique ..................................................................................... 13 II.1.1 Cellule électrochimique ................................................................................... 13 II.1.2 Electrodes ....................................................................................................... 13 II.1.3 Nettoyage des substrats ................................................................................... 14 II.1.4 Préparation des solutions ................................................................................. 14 II.2 Techniques de caractérisation .............................................................................. 14 II.2.1 Voltammétrie cyclique .................................................................................... 14 II.2.2 Chronoampérométrie ....................................................................................... 15 II.2.3 Mesure de Mott-Schottky (M-S) ...................................................................... 16 II.2.4 Mesure du photo-courant ................................................................................. 17 II.2.5 Diffraction de rayons X (DRX) ....................................................................... 19 II.2.6 Microscope à force atomique (AFM) ............................................................... 20 II.2.7 Spectroscopie de l’absorption optique dans le domaine UV-Visible ................. 21 Références bibliographiques ............................................................................................. 24 Chapitre III : Résultats et Discussions III.1 Mécanisme de l’électrodéposition de Cu2O ......................................................... 25 III.2 Caractérisation électrochimique .......................................................................... 25 III.2.1 Voltammétrie cyclique (VC) ........................................................................... 25 III.2.1.1 Stabilité du substrat .................................................................................. 25 III.2.1.2 Comportement du substrat en présence des ions Cu2+ : ............................. 26 III.2.1.3 Effet de la borne cathodique ..................................................................... 27 III.2.1.4 Influence de la vitesse de balayage ........................................................... 28 III.2.1.5 Effet de la concentration des ions de Cl- sur la cinétique de Cu2O ............. 30 III.2.2 Chronoampérométrie ....................................................................................... 30 III.2.3 Mesure de Mott-Schottky (M-S) ...................................................................... 34 III.2.4 Mesure du photo-courant ................................................................................. 37 III.3 Etude structurale par diffraction des rayons X .................................................. 38 III.4 Caractérisations morphologique par microscopie à force atomique .................. 40 III.5 Caractérisations optiques par spectrophotomètre UV-Visible ........................... 43 Références bibliographiques ............................................................................................. 49 Conclusion .......................................................................................................................... 49 Côte titre : MACH/0059 En ligne : https://drive.google.com/file/d/1u3NETKlVT7nEj8EZ-VO7AHgCFaMPHALM/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : pdf

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MACH/0059	MACH/0059	Mémoire	Bibliothéque des sciences	Français	Disponible Disponible

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