Etude des mécanismes de rupture de barrières de diffusion à base de tantale Ta-Si pour la technologie d'interconnexion de cuivre / Ahlem Kerour

Public ISBD Titre : Etude des mécanismes de rupture de barrières de diffusion à base de tantale Ta-Si pour la technologie d'interconnexion de cuivre Type de document : texte imprimé Auteurs : Ahlem Kerour ; N Benouattas, Directeur de thèse Editeur : Setif:UFA Année de publication : 2012 Importance : 1 vol (29 f.) Format : 29 cm Catégories : Thèses & Mémoires:Physique Mots-clés : Ingénierie des Matériaux Rupture Barrières Diffusion Tantale Ta-Si Technologie D'interconnexion Cuivre Index. décimale : 530 Physique Côte titre : MAPH/0019 Etude des mécanismes de rupture de barrières de diffusion à base de tantale Ta-Si pour la technologie d'interconnexion de cuivre [texte imprimé] / Ahlem Kerour ; N Benouattas, Directeur de thèse . - [S.l.] : Setif:UFA, 2012 . - 1 vol (29 f.) ; 29 cm. Catégories : Thèses & Mémoires:Physique Mots-clés : Ingénierie des Matériaux Rupture Barrières Diffusion Tantale Ta-Si Technologie D'interconnexion Cuivre Index. décimale : 530 Physique Côte titre : MAPH/0019

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Code-barres	Cote	Support	Localisation	Section	Disponibilité
MAPH/0019	MAPH/0019	Mémoire	Bibliothéque des sciences	Français	Disponible Disponible

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