Procédés chimiques de dépôt à partir d'une phase gazeuse / Yves Pauleau

Public ISBD Titre : Procédés chimiques de dépôt à partir d'une phase gazeuse Type de document : texte imprimé Auteurs : Yves Pauleau (1942-....), Auteur Editeur : Paris : Hermès science publications Année de publication : 2004 Importance : 415 p. Présentation : ill. Format : 24 cm ISBN/ISSN/EAN : 978-2-7462-0948-0 Prix : 95 EUR Note générale : Bibliogr. p. 403-411. Index Langues : Français (fre) Catégories : Chimie Mots-clés : Dépôt de couches minces Procédés CVD Index. décimale : 620.44 Technologie des surfaces Résumé : Cet ouvrage traite des procédés de dépôt de couches minces et de revêtements de surface par réaction chimique à partir d'une phase gazeuse. Ces procédés CVD (Chemical Vapor Deposition) sont utilisés au niveau industriel pour la fabrication des dispositifs semi-conducteurs (circuits intégrés) ou la production de revêtements protecteurs (anti-usure, anti-corrosion, anti-frottement). Ce livre est constitué de trois parties principales traitant chacune d'une famille particulière de procédés qu'on peut distinguer suivant le mode d'activation de la réaction chimique mise en jeu : activation thermique, activation par plasma (plasma-enhanced CVD) et activation par un faisceau de photons (procédés photo- CVD et laser-induced CVD). Le contenu de cet ouvrage intéresse le personnel technique, les ingénieurs et chercheurs qui travaillent dans le secteur recherche et développement ainsi que dans le secteur production de couches minces ou de revêtements de surface. Les étudiants d'IUT et d'écoles d'ingénieurs trouveront également les principes, les modèles et les principales données fondamentales concernant les procédés CVD couramment utilisés au niveau industriel. Note de contenu : Sommaire Avant-Propos Présentation générale des procédés I. Procédés CVD thermiquement activés Étude thermodynamique Régimes d'écoulement gazeux Dynamique de l'écoulement gazeux Cinétique de croissance des couches limitée par le transfert de matière en phase gazeuse Cinétique de croissance des couches limitée par les processus de surface Influence du transfert de matière sur la morphologie des couches déposées Procédés chimiques de dépôt sélectif II. Procédés CVD activés par plasma Décharge électrique dans un gaz sous basse pression Procédés d'ionisation d'un gaz sous basse pression Principes et applications des procédés CVD activés par plasma III. Procédés CVD activés par un faisceau de photons Procédés photochimiques de dépôt Procédés de dépôt sous irradiation laser Conclusion Côte titre : Fs/2001-2007 Procédés chimiques de dépôt à partir d'une phase gazeuse [texte imprimé] / Yves Pauleau (1942-....), Auteur . - Paris : Hermès science publications, 2004 . - 415 p. : ill. ; 24 cm. ISBN : 978-2-7462-0948-0 : 95 EUR Bibliogr. p. 403-411. Index Langues : Français (fre) Catégories : Chimie Mots-clés : Dépôt de couches minces Procédés CVD Index. décimale : 620.44 Technologie des surfaces Résumé : Cet ouvrage traite des procédés de dépôt de couches minces et de revêtements de surface par réaction chimique à partir d'une phase gazeuse. Ces procédés CVD (Chemical Vapor Deposition) sont utilisés au niveau industriel pour la fabrication des dispositifs semi-conducteurs (circuits intégrés) ou la production de revêtements protecteurs (anti-usure, anti-corrosion, anti-frottement). Ce livre est constitué de trois parties principales traitant chacune d'une famille particulière de procédés qu'on peut distinguer suivant le mode d'activation de la réaction chimique mise en jeu : activation thermique, activation par plasma (plasma-enhanced CVD) et activation par un faisceau de photons (procédés photo- CVD et laser-induced CVD). Le contenu de cet ouvrage intéresse le personnel technique, les ingénieurs et chercheurs qui travaillent dans le secteur recherche et développement ainsi que dans le secteur production de couches minces ou de revêtements de surface. Les étudiants d'IUT et d'écoles d'ingénieurs trouveront également les principes, les modèles et les principales données fondamentales concernant les procédés CVD couramment utilisés au niveau industriel. Note de contenu : Sommaire Avant-Propos Présentation générale des procédés I. Procédés CVD thermiquement activés Étude thermodynamique Régimes d'écoulement gazeux Dynamique de l'écoulement gazeux Cinétique de croissance des couches limitée par le transfert de matière en phase gazeuse Cinétique de croissance des couches limitée par les processus de surface Influence du transfert de matière sur la morphologie des couches déposées Procédés chimiques de dépôt sélectif II. Procédés CVD activés par plasma Décharge électrique dans un gaz sous basse pression Procédés d'ionisation d'un gaz sous basse pression Principes et applications des procédés CVD activés par plasma III. Procédés CVD activés par un faisceau de photons Procédés photochimiques de dépôt Procédés de dépôt sous irradiation laser Conclusion Côte titre : Fs/2001-2007

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Code-barres	Cote	Support	Localisation	Section	Disponibilité
Fs/2002	Fs/2001-2007	Livre	Bibliothéque des sciences	Français	Disponible Disponible
Fs/2003	Fs/2001-2007	Livre	Bibliothéque des sciences	Français	Disponible Disponible
Fs/2001	Fs/2001-2007	Livre	Bibliothéque des sciences	Français	Disponible Disponible
Fs/2004	Fs/2001-2007	Livre	Bibliothéque des sciences	Français	Disponible Disponible
Fs/2007	Fs/2001-2007	Livre	Bibliothéque des sciences	Français	Disponible Disponible
Fs/2006	Fs/2001-2007	Livre	Bibliothéque des sciences	Français	Disponible Disponible
Fs/2005	Fs/2001-2007	Livre	Bibliothéque des sciences	Français	Disponible Disponible

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