| Titre : | Étude des propriétés structurales et électriques des couches minces de Ni/Si(100)et de Ni/verre déposées par évaporation sous vide |
| Auteurs : | Messaoud Hemmous ; A. Layadi, Directeur de thèse |
| Type de document : | document électronique |
| Editeur : | Sétif : Université Ferhat Abbas faculté des sciences département de physique, 2007 |
| ISBN/ISSN/EAN : | E-TH/0031 |
| Format : | 1 vol. (76 f.) |
| Note générale : | Bibliogr. |
| Langues: | Français |
| Catégories : | |
| Résumé : |
Dans ce travail,nous avons étudié l'effet des substrats[verre et si(100)],de l'épaisseur de Ni(tNi)et de la vitesse de dépôt [vi=13nm/min et v2=22nm/min]sur les propriétés structurales et électriques des couches minces de Ni,déposées par évaporation sous vide.l'épaisseur de Ni,mesurée par la technique de la rétrodiffusion de rutherford (RBS),situent entr 28 rt 200 nm.pour la diffraction des rayons X,on l'a constaté que tous tous les échantillons sont polycristallins et croissent suivant la texture <111>. |
| En ligne : | http://dspace.univ-setif.dz:8888/jspui/bitstream/123456789/1226/1/th%C3%A8se%20M_hemmous.pdf |
Exemplaires (1)
| Cote | Support | Localisation | Disponibilité |
|---|---|---|---|
| E-TH/0031 | Thèse | Bibliothèque centrale | Disponible |
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