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Le travail présenté dans ce mémoire se divise en deux parties. Dans la première partie, nous avons étudié les paramètres d‘évaporation de l’évaporateur MECA2000 acquit dans le cadre du laboratoire ENMC de l’université F.Abbas de Sétif. L’obje[...]
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E-TH/0016 | Thèse | Bibliothèque centrale | Disponible |
Dans ce travail, la réaction à l’état solide entre des films minces de cuivre d'épaisseur 575 Å et un autre d’antimoine d'épaisseur 300 Å déposés sous vide sur des substrats de silicium Si (100), Si (110) et Si (111), a été étudiée au moyen de[...]
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TS4/7681 | Thèse | Bibliothèque centrale | Disponible |
Dans Ce travail, la réaction à l’état solide entre des films minces de cuivre d'épaisseur 575 Å et un autre d’antimoine d'épaisseur 300 Å déposés sous vide sur des substrats de silicium Si (100), Si (110) et Si (111), a été étudiée au moyen de[...]
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E-TH/0037 | Thèse | Bibliothèque centrale | Disponible |
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TS4/4256 | Thèse | Bibliothèque centrale | Disponible |
TS4/4257 | Thèse | Bibliothèque centrale | Disponible |
La réaction à l’état solide entre des films minces de cuivre sur des substrats de silicium Si (100), Si (110) et Si (111), déposés par voie électrochimique et par PVD et ayant subit des recuits sous vide dans l’intervalle 200-400°C pendant 45 [...]
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E-TH/0337 | Thèse | Bibliothèque centrale | Disponible |
La Réaction à l’état solide entre des films minces de cuivre sur des ubstrats de silicium Si (100), Si (110) et Si (111), déposés par voie électrochimique et par PVD et ayant subit des recuits sous vide dans l’intervalle 200-400°C pendant 45 [...]
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TS4/7798 | Thèse | Bibliothèque centrale | Disponible |
L’objet de notre étude ici, est la maîtrise de la fabrication des alliages Fe-Ni par Evaporation par Effet Joule (PVD) sous forme de couches minces sur un substrat en silicium, Pour cela, dans un premier nous avons déposé une couche de fer su[...]
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E-TH/0523 | Thèse | Bibliothèque centrale | Disponible |
L’Objet de notre étude ici, est la maîtrise de la fabrication des alliages Fe-Ni par Evaporation par Effet Joule (PVD) sous forme de couches minces sur un substrat en silicium, Pour cela, dans un premier nous avons déposé une couche de fer su[...]
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TS4/8055 | Thèse | Bibliothèque centrale | Disponible |
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