University Sétif 1 FERHAT ABBAS Faculty of Sciences
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Auteur Messaoudi, Yazid. |
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Titre : La Déposition induite du phosphore avec un élément de groupe de fer Type de document : texte imprimé Auteurs : Laoudji ,Samira, Auteur ; Messaoudi, Yazid., Directeur de thèse Editeur : Setif:UFA Année de publication : 2021 Importance : 1 vol (38 f .) Format : 29 cm Langues : Français (fre) Catégories : Thèses & Mémoires:Chimie Mots-clés : Electro-dépôts
MorphologieIndex. décimale : 540 Chimie et sciences connexes Résumé :
Dans ce travail, nous nous sommes intéressés à l’étude de l’effet de densité de courant appliquée et la concentration des ions phosphore sur les propriétés des électro-dépôts Ni-P. L’analyse morphologique par MEB, montre que l’augmentation de la concentration de P en solution à permet de réduire la taille des grains. L’analyse élémentaire par XRF à révélé que la teneur en P atteint un maximum de 7.1 pour l’échantillon élaboré à -100mA/cm² à partir de rapport 1/2. Ce dernier, à présenté une activité électro-catalytique à la réaction de dégagement d’hydrogène (HER) importante comme conséquence à sa grande surface active et son faible énergie d’activation.Côte titre : MACH/0228 En ligne : https://drive.google.com/file/d/1-AY_V-OnLbvbU3HFVI40NYRLDFr3oSCV/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : La Déposition induite du phosphore avec un élément de groupe de fer [texte imprimé] / Laoudji ,Samira, Auteur ; Messaoudi, Yazid., Directeur de thèse . - [S.l.] : Setif:UFA, 2021 . - 1 vol (38 f .) ; 29 cm.
Langues : Français (fre)
Catégories : Thèses & Mémoires:Chimie Mots-clés : Electro-dépôts
MorphologieIndex. décimale : 540 Chimie et sciences connexes Résumé :
Dans ce travail, nous nous sommes intéressés à l’étude de l’effet de densité de courant appliquée et la concentration des ions phosphore sur les propriétés des électro-dépôts Ni-P. L’analyse morphologique par MEB, montre que l’augmentation de la concentration de P en solution à permet de réduire la taille des grains. L’analyse élémentaire par XRF à révélé que la teneur en P atteint un maximum de 7.1 pour l’échantillon élaboré à -100mA/cm² à partir de rapport 1/2. Ce dernier, à présenté une activité électro-catalytique à la réaction de dégagement d’hydrogène (HER) importante comme conséquence à sa grande surface active et son faible énergie d’activation.Côte titre : MACH/0228 En ligne : https://drive.google.com/file/d/1-AY_V-OnLbvbU3HFVI40NYRLDFr3oSCV/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité MACH/0228 MACH/0228 Mémoire Bibliothéque des sciences Français Disponible
DisponibleEffet des additifs organiques sur les propriétés de nanostructures Co-Mo obtenues par déposition électrochimique / Messaoudi, Yazid.
Titre : Effet des additifs organiques sur les propriétés de nanostructures Co-Mo obtenues par déposition électrochimique Type de document : texte imprimé Auteurs : Messaoudi, Yazid. ; A Azizi, Directeur de thèse Editeur : Setif:UFA Année de publication : 2014 Importance : 1 vol (125 f .) Format : 29 cm Langues : Français (fre) Langues originales : Français (fre) Catégories : Thèses & Mémoires:Chimie Mots-clés : Alliages magnétiques
CO-MO
Electrodéposition
Additifs
Nucléation-croissans
Morphologie
Structure
Propriétés magnétiquesIndex. décimale : 540 - Chimie et sciences connexes Résumé :
Dans ce travail,nous nous sommes intéressons ai'effet des additifs sur les caractéristiques électrochimiques
morphologiques,structurales et magnétiques des films minces d'alliage Co-Mo électro déposés sur un substrat de ruthénium a partir de bain sulfate l'étude cinétique de dépôt par la technique voltammétrique a permis d'optimiser les conditions d'électrodéposition de ces couches minces l'analyse des courants trasiroires par l'utilisation du modéle théorique de scharifker- hills indique que le mécanisme de nucléation suit une nucléation de type instantanée suivie par une croissance tridimensionnelle(volmer-weber)limitée par la diffusion ce mode de nucléation aéte influencé par la nature et la concentration de l'additif ajouté au bain de déposition lacaractérisation ex-situ des échantillons aéte déterminée par microscopie a force atomique (AFM) microscopie électronique a balayage (MEB) DIFFRACTION DE RAYONSx(DRX) ET MAGNÉTOMÉTRIE AGRADIENT de champ magnétique alternatif la morphologie de la surface des films varie avec la nature d' additif la diffraction x indique que les dépôts sont constitués dune phase hexagonale compactes co hcp les propriétés magnétique de ces alliages ont été considérablement améliorées par l'ajout de saccharine et de citrate
Note de contenu :
Table des matières
Introduction générale ……………………......................................................................... 1
Chapitre I Revue bibliographique
I. Revue bibliographique ………………………………………………………………….. 5
I.1 Approche bibliographique sur les Systèmes Micro-Electromécaniques MEMS ……... 5
I.1.2 Historique …………………………………………………………………………… 7
I.1.3 Définitions et classifications ………………………………………………………… 9
I.1.4 Procédés de dépôt de couches minces pour MEMS ………………………………… 10
I.1.4.1 Dépôt résultant d’une transformation physique …………………………………… 11
I.1.4.2 Dépôt résultant d’une réaction chimique ……………………………..................... 13
I.2 Principes fondamentaux de l’électrodéposition des métaux …………………………. 15
I.2.1 Interface électrode-électrolyte ……………………………………………………… 16
I.2.2 Cinétique à l’interface électrode-électrolyte ……………………………………….. 18
I.2.3 Nucléation et croissance électrochimique …………………………………………. 25
I.2.3.1 Nucléation …………………………………………………………………………. 25
I.2.3.2 Croissance électrochimique……………………………………………………... 30
I.3 Electrodéposition des alliages …………………………………………………………. 31
I.3.1 Thermodynamique de l’électrodéposition des alliages ……………………………… 31
I.3.2 Cinétique de l’électrodéposition des alliages ……………………………………….. 33
I.3.3 Facteurs thermodynamiques affectant l’électrodéposition des alliages …………… 35
I.3.4 Effet des additifs organique sur l’électrodéposition des métaux et alliages ……….. 36
I.4 Survol de la littérature …………………………………………………………………. 37
I.4.1 Propriétés et applications du Cobalt …………………………………………………. 37
I.4.2 Propriétés et applications du molybdène …………………………………………….. 38
I.4.3 La codéposition induite du Mo avec les éléments du groupe de fer ………………. 39
I.5 Conclusion ……………………………………………………………………………... 44
Références ………………………………………………………………………………... 45
Chapitre II Techniques d’élaborations et de caractérisations des dépôts
II.1 Montage électrochimique …………………………………………………………….. 48
II.1.1 Cellule électrochimique …………………………………………………………….. 49
II.1.2 Les électrodes ………………………………………………………………………. 50
II.2 Méthodes expérimentales …………………………………………………………….. 51
II.2.1 Techniques électrochimiques ……………………………………………………….. 51
II.2.1.1 Voltammètrie cyclique (VC) ……………………………………………………… 51
II.2.1.2 Chronoampérométrie (CA) ……………………………………………………….. 54
II.2.1.3 Rendement en courant (RC) …………………………………………………......... 55
II.2.1.4 Spectroscopie d’Impédance Electrochimique (SIE) ……………………………. 56
II.2.2 Caractérisation ex-situ des dépôts …………………………………………………. 60
II.2.2.1 Mesure de l’épaisseur ……………………………………………………………. 60
II.2.2.2 Analyses morphologique par microscopie ………………………………………. 60
a) Microscopie à force atomique (AFM) …………………………………………… 60
b) Microscope Electronique à Balayage (MEB) …………………………………….63
II.2.2.3 Caractérisation structurale par diffraction des rayons X (DRX) ………………….. 65
II.2.2.4 Caractérisation magnétiques ……………………………………………………… 67
a) Le ferromagnétisme …………………………………………………………… 67
b) Courbe d’hystérésis ……………………………………………………………. 68
II.3 Conclusion …………………………………………………………………………….. 70
Références …………………………………………………………………………………. 71
Chapitre III Influence des additifs organiques sur le processus de l’électrodéposition des
alliages de Co-Mo
III.1 Optimisation des conditions expérimentales d’électrodéposition ……………………. 73
III.1.1 Détermination des concentrations des ions métalliques …………………………… 76
III.1.2 Choix du potentiel de déposition …………………………………………………... 77
III.2 Mécanisme de nucléation et de croissance de codépot Co-Mo ……………………… 79
III.2.1 Courbes courant-temps ……………………………………………………………. 79
III.2.2 Nucléation et croissance de Co-Mo en absence des additifs ……………………… 80
III.3 Effet des additifs organiques sur l’électrodéposition de l’alliage Co-Mo …………… 82
III.3.1 Ajout des additifs ………………………………………………………………….. 82
III.3.2 Ajout de saccharine ………………………………………………………………… 83
III.3.3 Ajout de citrate …………………………………………………………………….. 85
III.3.4 Effet des additifs sur le rendement en courant ……………………………………. 87
III.3.5 Influence des additifs sur le mécanisme de nucléation et croissance …………….. 88
III.3.5.1 Courbes transitoires ……………………………………………………………… 88
III.3.5.2 Nucléation et croissance en présence des additifs ………………………………. 89
III.4 Influence des additifs sur les propriétés de corrosion des codépots de Co-Mo ……… 92
III.4.1 Courbes de polarisation (Courbes de Tafel) ……………………………………..... 92
III.4.2 Etude par spectroscopie d’impédance électrochimique …………………………… 95
III.5 Conclusion …………………………………………………………………………… 99
Références ………………………………………………………………………………… 100
Chapitre IV Influence des additifs sur les propriétés des codépôts de Co-Mo
IV.1 Détermination des épaisseurs de codépôts …………………………………………. 103
IV.2 Effet des additifs sur la morphologie ……………………………………………….. 105
IV.2.1 Etude par microscope à force atomique ………………………………………….. 105
IV.2.2 Etude par microscope électronique à balayage ……………………………………. 108
IV.3 Caractérisation structurale de codépôts………………………………………………. 112
IV.4 Effet des additifs sur les propriétés magnétiques …………………………………… 116
IV.5 Conclusion …………………………………………………………………………… 120
Références ………………………………………………………………………………… 122
Conclusion générale ……………………………………………………………………… 124Côte titre : DCH/0012-0013 En ligne : http://dspace.univ-setif.dz:8888/jspui/handle/123456789/1843 Effet des additifs organiques sur les propriétés de nanostructures Co-Mo obtenues par déposition électrochimique [texte imprimé] / Messaoudi, Yazid. ; A Azizi, Directeur de thèse . - [S.l.] : Setif:UFA, 2014 . - 1 vol (125 f .) ; 29 cm.
Langues : Français (fre) Langues originales : Français (fre)
Catégories : Thèses & Mémoires:Chimie Mots-clés : Alliages magnétiques
CO-MO
Electrodéposition
Additifs
Nucléation-croissans
Morphologie
Structure
Propriétés magnétiquesIndex. décimale : 540 - Chimie et sciences connexes Résumé :
Dans ce travail,nous nous sommes intéressons ai'effet des additifs sur les caractéristiques électrochimiques
morphologiques,structurales et magnétiques des films minces d'alliage Co-Mo électro déposés sur un substrat de ruthénium a partir de bain sulfate l'étude cinétique de dépôt par la technique voltammétrique a permis d'optimiser les conditions d'électrodéposition de ces couches minces l'analyse des courants trasiroires par l'utilisation du modéle théorique de scharifker- hills indique que le mécanisme de nucléation suit une nucléation de type instantanée suivie par une croissance tridimensionnelle(volmer-weber)limitée par la diffusion ce mode de nucléation aéte influencé par la nature et la concentration de l'additif ajouté au bain de déposition lacaractérisation ex-situ des échantillons aéte déterminée par microscopie a force atomique (AFM) microscopie électronique a balayage (MEB) DIFFRACTION DE RAYONSx(DRX) ET MAGNÉTOMÉTRIE AGRADIENT de champ magnétique alternatif la morphologie de la surface des films varie avec la nature d' additif la diffraction x indique que les dépôts sont constitués dune phase hexagonale compactes co hcp les propriétés magnétique de ces alliages ont été considérablement améliorées par l'ajout de saccharine et de citrate
Note de contenu :
Table des matières
Introduction générale ……………………......................................................................... 1
Chapitre I Revue bibliographique
I. Revue bibliographique ………………………………………………………………….. 5
I.1 Approche bibliographique sur les Systèmes Micro-Electromécaniques MEMS ……... 5
I.1.2 Historique …………………………………………………………………………… 7
I.1.3 Définitions et classifications ………………………………………………………… 9
I.1.4 Procédés de dépôt de couches minces pour MEMS ………………………………… 10
I.1.4.1 Dépôt résultant d’une transformation physique …………………………………… 11
I.1.4.2 Dépôt résultant d’une réaction chimique ……………………………..................... 13
I.2 Principes fondamentaux de l’électrodéposition des métaux …………………………. 15
I.2.1 Interface électrode-électrolyte ……………………………………………………… 16
I.2.2 Cinétique à l’interface électrode-électrolyte ……………………………………….. 18
I.2.3 Nucléation et croissance électrochimique …………………………………………. 25
I.2.3.1 Nucléation …………………………………………………………………………. 25
I.2.3.2 Croissance électrochimique……………………………………………………... 30
I.3 Electrodéposition des alliages …………………………………………………………. 31
I.3.1 Thermodynamique de l’électrodéposition des alliages ……………………………… 31
I.3.2 Cinétique de l’électrodéposition des alliages ……………………………………….. 33
I.3.3 Facteurs thermodynamiques affectant l’électrodéposition des alliages …………… 35
I.3.4 Effet des additifs organique sur l’électrodéposition des métaux et alliages ……….. 36
I.4 Survol de la littérature …………………………………………………………………. 37
I.4.1 Propriétés et applications du Cobalt …………………………………………………. 37
I.4.2 Propriétés et applications du molybdène …………………………………………….. 38
I.4.3 La codéposition induite du Mo avec les éléments du groupe de fer ………………. 39
I.5 Conclusion ……………………………………………………………………………... 44
Références ………………………………………………………………………………... 45
Chapitre II Techniques d’élaborations et de caractérisations des dépôts
II.1 Montage électrochimique …………………………………………………………….. 48
II.1.1 Cellule électrochimique …………………………………………………………….. 49
II.1.2 Les électrodes ………………………………………………………………………. 50
II.2 Méthodes expérimentales …………………………………………………………….. 51
II.2.1 Techniques électrochimiques ……………………………………………………….. 51
II.2.1.1 Voltammètrie cyclique (VC) ……………………………………………………… 51
II.2.1.2 Chronoampérométrie (CA) ……………………………………………………….. 54
II.2.1.3 Rendement en courant (RC) …………………………………………………......... 55
II.2.1.4 Spectroscopie d’Impédance Electrochimique (SIE) ……………………………. 56
II.2.2 Caractérisation ex-situ des dépôts …………………………………………………. 60
II.2.2.1 Mesure de l’épaisseur ……………………………………………………………. 60
II.2.2.2 Analyses morphologique par microscopie ………………………………………. 60
a) Microscopie à force atomique (AFM) …………………………………………… 60
b) Microscope Electronique à Balayage (MEB) …………………………………….63
II.2.2.3 Caractérisation structurale par diffraction des rayons X (DRX) ………………….. 65
II.2.2.4 Caractérisation magnétiques ……………………………………………………… 67
a) Le ferromagnétisme …………………………………………………………… 67
b) Courbe d’hystérésis ……………………………………………………………. 68
II.3 Conclusion …………………………………………………………………………….. 70
Références …………………………………………………………………………………. 71
Chapitre III Influence des additifs organiques sur le processus de l’électrodéposition des
alliages de Co-Mo
III.1 Optimisation des conditions expérimentales d’électrodéposition ……………………. 73
III.1.1 Détermination des concentrations des ions métalliques …………………………… 76
III.1.2 Choix du potentiel de déposition …………………………………………………... 77
III.2 Mécanisme de nucléation et de croissance de codépot Co-Mo ……………………… 79
III.2.1 Courbes courant-temps ……………………………………………………………. 79
III.2.2 Nucléation et croissance de Co-Mo en absence des additifs ……………………… 80
III.3 Effet des additifs organiques sur l’électrodéposition de l’alliage Co-Mo …………… 82
III.3.1 Ajout des additifs ………………………………………………………………….. 82
III.3.2 Ajout de saccharine ………………………………………………………………… 83
III.3.3 Ajout de citrate …………………………………………………………………….. 85
III.3.4 Effet des additifs sur le rendement en courant ……………………………………. 87
III.3.5 Influence des additifs sur le mécanisme de nucléation et croissance …………….. 88
III.3.5.1 Courbes transitoires ……………………………………………………………… 88
III.3.5.2 Nucléation et croissance en présence des additifs ………………………………. 89
III.4 Influence des additifs sur les propriétés de corrosion des codépots de Co-Mo ……… 92
III.4.1 Courbes de polarisation (Courbes de Tafel) ……………………………………..... 92
III.4.2 Etude par spectroscopie d’impédance électrochimique …………………………… 95
III.5 Conclusion …………………………………………………………………………… 99
Références ………………………………………………………………………………… 100
Chapitre IV Influence des additifs sur les propriétés des codépôts de Co-Mo
IV.1 Détermination des épaisseurs de codépôts …………………………………………. 103
IV.2 Effet des additifs sur la morphologie ……………………………………………….. 105
IV.2.1 Etude par microscope à force atomique ………………………………………….. 105
IV.2.2 Etude par microscope électronique à balayage ……………………………………. 108
IV.3 Caractérisation structurale de codépôts………………………………………………. 112
IV.4 Effet des additifs sur les propriétés magnétiques …………………………………… 116
IV.5 Conclusion …………………………………………………………………………… 120
Références ………………………………………………………………………………… 122
Conclusion générale ……………………………………………………………………… 124Côte titre : DCH/0012-0013 En ligne : http://dspace.univ-setif.dz:8888/jspui/handle/123456789/1843 Exemplaires (2)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité DCH/0012 DCH/0012-0013 Thèse Bibliothéque des sciences Français Disponible
DisponibleDCH/0013 DCH/0012-0013 Thèse Bibliothéque des sciences Français Disponible
DisponibleFabrication par voie électrochimique de nanostructures de cuivre pour des applications en microélectrinique avancées (interconnection). / Mansouri, Ouassila
Titre : Fabrication par voie électrochimique de nanostructures de cuivre pour des applications en microélectrinique avancées (interconnection). Type de document : texte imprimé Auteurs : Mansouri, Ouassila, Auteur ; Messaoudi, Yazid., Directeur de thèse Editeur : Setif:UFA Année de publication : 2018 Importance : 1 vol (56 f .) Format : 29 cm Langues : Français (fre) Catégories : Thèses & Mémoires:Chimie Mots-clés : Cu
glycérine
électrodéposition
NanostructuresIndex. décimale : 541.3 Sujets divers en chimie physique Résumé : Dans ce travail, nous avons étudié l’effet de solvant et du potentiel appliqué sur les propriétés
des nanostructures de Cu électrodéposées sur un substrat d’ITO. Tout d’abord, nous avons
étudié les mécanismes de l’électrodéposition en utilisant la technique de la voltamétrie
cyclique qui révèle que l’utilisation de la glycérine réduit remarquablement la vitesse de
déposition de cuivre métallique. Cette réduction de la vitesse à provoquer un changement
notable sur la structure cristalline qui s’est manifesté par le changement d’orientation
préférentielle et sur la taille de cristallite et le paramètre de maille. D’autre part, la
caractérisation morphologique par AFM montre une surface granulaire et totalement
recouverte de dépôts dans le cas de la glycérine et une surface poreuse dans le cas de solution
aqueuse.Note de contenu : Sommaire
Introduction générale…………………………………………………..………………………1
Chapitre I : Revue bibliographique
Introduction …………………………………………………………………………………..5
1. Utilisation des métaux a l’état massif ………………...…………………………………...6
2. Utilisation des métaux à l’échelle nanométrique………………………………….………..7
I.2 Cuivre …………………..…………………………………………………………………8
I.1. Propriétés du cuivre ………………………………….……………………...…………….9
I.1.1 Propriétés électrochimiques ……………………………………………………………...9
I.1.2 Propriétés chimique……………………………………………………………………..10
I.1.3 Propriétés physiques…………………………………………………………………….10
I.1.4 Propriétés thermiques …………………………………………………………………..11
I.2. Applications du cuivre………………………………………………………..…………11
I.2.1. Les applications électriques et mécaniques du cuivre……………………………..…..11
I.2.2. Les applications électroniques et microélectroniques……………………………….....12
I.2.3. Les applications de cuivre à l’échelle nanométrique…………………………...………12
I.3. Méthodes d’élaboration de nanostructure en cuivre…………………………………13
I.3.1. Les méthodes physiques……………………………………………………..….....13
I.3.1.1 Pulvérisation cathodique (sputtering)……………………………………….…...13
I.3.1.2 Ablation laser (Pulse Laser Déposition PLD)…………………………………....13
I.3.1.3 l’évaporation sous vide…………………………………………………………..14
I.3.2. Les méthodes chimique…………………………………………………………...14
I.3.2.1. Dépôts par Spray pyrolyse………………………………………………….…...14
I.3.2.2. La méthode Sol-gel ……………………………………………………….…….14
I.3.2.3. La méthode de déposition électrochimique (électrodéposition)……………..…..14
I.4. Aspect théorique de l’électrodéposition…………………………………….…..……15
I.4.1 Mécanismes de l’électrodéposition…………………………………………….........16
I.4.1.1.Le transfert de masse…………………………………………………………...….16
I.4.1.2.Le transfert de charge…………………………………………...…………………17
I.4.1.3.La cristallisation……………………………………………………………………17
I.4.2. Nucléation et croissance des dépôts électrochimiques……………………………...17
I.5. Effets des paramètres d’électrodéposition ……………………………………………18
II. Glycérine …………………………………………………………………………..........19
II.1. Propriétés de la glycérine ……………………………………………………………..20
II.2. Applications de la glycérine…………………………………………………………...21
III. survol de littérature……………………………………………………………………..22
Références bibliographique………….………………………..….…………………………24
Chapitre II : Dispositifs et techniques expérimentales
II.1. Principe de l’électrodéposition …………………………………………………….…29
II. 2. Conditions d’élaboration ……………………………………………………………..30
II.2.1. Montage et appareillage électrochimique …………………………………………..30
II.2 .2. Electrodes …………………………………………………………………….…...31
II.2.3. Nettoyage des substrats ………………………………………………………...........31
II.2. 4. Bain d’électrodéposition …………………………………………………………..31
II.3. Techniques de caractérisation électrochimique ………………………………..........32
II.3.1. Voltammètrie cyclique (VC)…………………………………………………..........32
II.3.2. La chronoampérométrie (CA) ………………………………………………………33
II.4. Techniques de caractérisation………………………………………………………….35
II. 4. 1. Diffraction des rayons X (DRX) ……………………………………………..........35
II.4. 2. Microscopie à Force Atomique (AFM) ……………………………………….........36
Références ………….………………………..….…………………………………………38
Chapitre III : Résultats et discussions
III.1. Elaboration des couches minces de Cu……………………………………………....40
III.1.1. Etude par voltamétrie cyclique (VC) …………………………………...................40
III.1.2. Effet de la vitesse de balayage …………………………………………………….42
III.1.3. Détermination des paramètres cinétiques ………………………………………….43
III.1.3.a. Déterminé le coefficient de transfert α ………………………………………….43
III.1.3.b. Déterminé le coefficient de diffusion D ………………………………………...45
III.1.4. Rendement en courant …………………………………………………………….45
II.2. Caractérisations des électrodépôts de Cu ……………………………….……………46
III.2.1.Condition d’élaboration …………………………………………………..………..46
III.2.2. Caractérisation structurale par diffraction des rayons X ……….…….……………47
III.2.2.Caractérisation morphologique par la microscopie à force atomique (AFM)…… .49
Références ………….………………………..….…………………………….………..…..53
Conclusion générale ………………………………………………………………………...56Côte titre : MACH/0091 En ligne : https://drive.google.com/file/d/1OePA4GHPOTm0yJYKGClkH_Bi6nbvJ16p/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : Fabrication par voie électrochimique de nanostructures de cuivre pour des applications en microélectrinique avancées (interconnection). [texte imprimé] / Mansouri, Ouassila, Auteur ; Messaoudi, Yazid., Directeur de thèse . - [S.l.] : Setif:UFA, 2018 . - 1 vol (56 f .) ; 29 cm.
Langues : Français (fre)
Catégories : Thèses & Mémoires:Chimie Mots-clés : Cu
glycérine
électrodéposition
NanostructuresIndex. décimale : 541.3 Sujets divers en chimie physique Résumé : Dans ce travail, nous avons étudié l’effet de solvant et du potentiel appliqué sur les propriétés
des nanostructures de Cu électrodéposées sur un substrat d’ITO. Tout d’abord, nous avons
étudié les mécanismes de l’électrodéposition en utilisant la technique de la voltamétrie
cyclique qui révèle que l’utilisation de la glycérine réduit remarquablement la vitesse de
déposition de cuivre métallique. Cette réduction de la vitesse à provoquer un changement
notable sur la structure cristalline qui s’est manifesté par le changement d’orientation
préférentielle et sur la taille de cristallite et le paramètre de maille. D’autre part, la
caractérisation morphologique par AFM montre une surface granulaire et totalement
recouverte de dépôts dans le cas de la glycérine et une surface poreuse dans le cas de solution
aqueuse.Note de contenu : Sommaire
Introduction générale…………………………………………………..………………………1
Chapitre I : Revue bibliographique
Introduction …………………………………………………………………………………..5
1. Utilisation des métaux a l’état massif ………………...…………………………………...6
2. Utilisation des métaux à l’échelle nanométrique………………………………….………..7
I.2 Cuivre …………………..…………………………………………………………………8
I.1. Propriétés du cuivre ………………………………….……………………...…………….9
I.1.1 Propriétés électrochimiques ……………………………………………………………...9
I.1.2 Propriétés chimique……………………………………………………………………..10
I.1.3 Propriétés physiques…………………………………………………………………….10
I.1.4 Propriétés thermiques …………………………………………………………………..11
I.2. Applications du cuivre………………………………………………………..…………11
I.2.1. Les applications électriques et mécaniques du cuivre……………………………..…..11
I.2.2. Les applications électroniques et microélectroniques……………………………….....12
I.2.3. Les applications de cuivre à l’échelle nanométrique…………………………...………12
I.3. Méthodes d’élaboration de nanostructure en cuivre…………………………………13
I.3.1. Les méthodes physiques……………………………………………………..….....13
I.3.1.1 Pulvérisation cathodique (sputtering)……………………………………….…...13
I.3.1.2 Ablation laser (Pulse Laser Déposition PLD)…………………………………....13
I.3.1.3 l’évaporation sous vide…………………………………………………………..14
I.3.2. Les méthodes chimique…………………………………………………………...14
I.3.2.1. Dépôts par Spray pyrolyse………………………………………………….…...14
I.3.2.2. La méthode Sol-gel ……………………………………………………….…….14
I.3.2.3. La méthode de déposition électrochimique (électrodéposition)……………..…..14
I.4. Aspect théorique de l’électrodéposition…………………………………….…..……15
I.4.1 Mécanismes de l’électrodéposition…………………………………………….........16
I.4.1.1.Le transfert de masse…………………………………………………………...….16
I.4.1.2.Le transfert de charge…………………………………………...…………………17
I.4.1.3.La cristallisation……………………………………………………………………17
I.4.2. Nucléation et croissance des dépôts électrochimiques……………………………...17
I.5. Effets des paramètres d’électrodéposition ……………………………………………18
II. Glycérine …………………………………………………………………………..........19
II.1. Propriétés de la glycérine ……………………………………………………………..20
II.2. Applications de la glycérine…………………………………………………………...21
III. survol de littérature……………………………………………………………………..22
Références bibliographique………….………………………..….…………………………24
Chapitre II : Dispositifs et techniques expérimentales
II.1. Principe de l’électrodéposition …………………………………………………….…29
II. 2. Conditions d’élaboration ……………………………………………………………..30
II.2.1. Montage et appareillage électrochimique …………………………………………..30
II.2 .2. Electrodes …………………………………………………………………….…...31
II.2.3. Nettoyage des substrats ………………………………………………………...........31
II.2. 4. Bain d’électrodéposition …………………………………………………………..31
II.3. Techniques de caractérisation électrochimique ………………………………..........32
II.3.1. Voltammètrie cyclique (VC)…………………………………………………..........32
II.3.2. La chronoampérométrie (CA) ………………………………………………………33
II.4. Techniques de caractérisation………………………………………………………….35
II. 4. 1. Diffraction des rayons X (DRX) ……………………………………………..........35
II.4. 2. Microscopie à Force Atomique (AFM) ……………………………………….........36
Références ………….………………………..….…………………………………………38
Chapitre III : Résultats et discussions
III.1. Elaboration des couches minces de Cu……………………………………………....40
III.1.1. Etude par voltamétrie cyclique (VC) …………………………………...................40
III.1.2. Effet de la vitesse de balayage …………………………………………………….42
III.1.3. Détermination des paramètres cinétiques ………………………………………….43
III.1.3.a. Déterminé le coefficient de transfert α ………………………………………….43
III.1.3.b. Déterminé le coefficient de diffusion D ………………………………………...45
III.1.4. Rendement en courant …………………………………………………………….45
II.2. Caractérisations des électrodépôts de Cu ……………………………….……………46
III.2.1.Condition d’élaboration …………………………………………………..………..46
III.2.2. Caractérisation structurale par diffraction des rayons X ……….…….……………47
III.2.2.Caractérisation morphologique par la microscopie à force atomique (AFM)…… .49
Références ………….………………………..….…………………………….………..…..53
Conclusion générale ………………………………………………………………………...56Côte titre : MACH/0091 En ligne : https://drive.google.com/file/d/1OePA4GHPOTm0yJYKGClkH_Bi6nbvJ16p/view?usp=shari [...] Format de la ressource électronique : Exemplaires (1)
Code-barres Cote Support Localisation Section Disponibilité MACH/0091 MACH/0091 Mémoire Bibliothéque des sciences Français Disponible
Sorti jusqu'au 01/04/2024