Titre : | Influence de l’acide borique et de l’anion chlorure sur les premiers stades de l’électrodéposition du cobalt sur platine |
Auteurs : | Salim Mokhtari ; A. Azizi, Directeur de thèse |
Type de document : | document électronique |
Editeur : | Sétif : Université Ferhat Abbas faculté des sciences département de chimie, 2010 |
ISBN/ISSN/EAN : | E-TH/0521 |
Format : | 1 vol. (78 f.) / ill. |
Note générale : | Bibliogr. |
Langues: | Français |
Catégories : | |
Résumé : |
La Maîtrise de quelques paramètres telle que la composition du bain électrolytique et le pH du milieu réactionnel et d'autres additifs rendent la méthode de l'électrodéposition en régime OPD plus intéressante pour fabriquer des matériaux de faibles dimensions. Ce travail cherche à mettre en évidence, l’influence de l’acide borique, le pH du milieu réactionnel et l'effet de l’anion chlorure sur le mécanisme de nucleation et de croissance de film de Cobalt sur une surface plane de platine. L’étude électrochimique en premiers stade de l'électrodéposition montre que l’acide borique tamponne le milieu réactionnel et inhibe sensiblement la réaction de dégagement d’hydrogène. La présence de l’acide borique en quantité appropriée améliore le rendement de la réaction de dépôt. La morphologie des surfaces qui croissent sur le substrat en platine en présence de l'acide borique sont caractérisées par des grains de taille plus fine. Les milieux plus acides donnent naissance à des dépôts dominés par la structure cfc. Les milieux moins acides donnent des dépôts formés par un mélange des deux structures,Cohcp et Cocfc. La présence de l’anion chlorure influence fortement la morphologie des dépôts. L’étude électrochimique montre que le processus de nucléation du Co est instantané suivie d’une croissance (3D) limitée par la diffusion. |
En ligne : | http://dspace.univ-setif.dz:8888/jspui/bitstream/123456789/696/1/MOKHTARI%20SALIM.pdf.zip |
Exemplaires (1)
Cote | Support | Localisation | Disponibilité |
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E-TH/0521 | Thèse | Bibliothèque centrale | Disponible |
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