Titre :	Procédés chimiques de dépôt à partir d'une phase gazeuse
Type de document :	texte imprimé
Auteurs :	Yves Pauleau (1942-2010)
Editeur :	Paris : Hermès science publications-Lavoisier
Année de publication :	2004
Autre Editeur :	Lavoisier
Importance :	1 vol. (415 p.)
Présentation :	ill., couv. ill. en coul.
Format :	24 cm
ISBN/ISSN/EAN :	978-2-7462-0948-0
Langues :	Français
Catégories :	Chimie ( Organique -Générale- Théorique - Analytique -Quantique - Géochimie - Physique )
Mots-clés :	- Dépôt chimique en phase vapeur - Revêtement de surface - Couches minces - Génie chimique - Activation chimique - Gaz: composition chimique
Résumé :	Cet ouvrage traite des procédés de dépôt de couches minces et de revêtements de surface par réaction chimique à partir d'une phase gazeuse. Ces procédés CVD (Chemical Vapor Deposition) sont utilisés au niveau industriel pour la fabrication des dispositifs semi-conducteurs (circuits intégrés) ou la production de revêtements protecteurs (anti-usure, anti-corrosion, anti-frottement). Ce livre est constitué de trois parties principales traitant chacune d'une famille particulière de procédés qu'on peut distinguer suivant le mode d'activation de la réaction chimique mise en jeu : activation thermique, activation par plasma (plasma-enhanced CVD) et activation par un faisceau de photons (procédés photo- CVD et laser-induced CVD). Le contenu de cet ouvrage intéresse le personnel technique, les ingénieurs et chercheurs qui travaillent dans le secteur recherche et développement ainsi que dans le secteur production de couches minces ou de revêtements de surface. Les étudiants d'IUT et d'écoles d'ingénieurs trouveront également les principes, les modèles et les principales données fondamentales concernant les procédés CVD couramment utilisés au niveau industriel.
Note de contenu :	Sommaire : -I- Procédés CVD thermiquement activés -II- Procédés CVD activés par plasma -III- Procédés CVD activés par un faisceau de photons

Procédés chimiques de dépôt à partir d'une phase gazeuse [texte imprimé] / Yves Pauleau (1942-2010) . - Paris : Hermès science publications-Lavoisier : [S.l.] : Lavoisier, 2004 . - 1 vol. (415 p.) : ill., couv. ill. en coul. ; 24 cm.
ISBN : 978-2-7462-0948-0
Langues : Français

Catégories :	Chimie ( Organique -Générale- Théorique - Analytique -Quantique - Géochimie - Physique )
Mots-clés :	- Dépôt chimique en phase vapeur - Revêtement de surface - Couches minces - Génie chimique - Activation chimique - Gaz: composition chimique
Résumé :	Cet ouvrage traite des procédés de dépôt de couches minces et de revêtements de surface par réaction chimique à partir d'une phase gazeuse. Ces procédés CVD (Chemical Vapor Deposition) sont utilisés au niveau industriel pour la fabrication des dispositifs semi-conducteurs (circuits intégrés) ou la production de revêtements protecteurs (anti-usure, anti-corrosion, anti-frottement). Ce livre est constitué de trois parties principales traitant chacune d'une famille particulière de procédés qu'on peut distinguer suivant le mode d'activation de la réaction chimique mise en jeu : activation thermique, activation par plasma (plasma-enhanced CVD) et activation par un faisceau de photons (procédés photo- CVD et laser-induced CVD). Le contenu de cet ouvrage intéresse le personnel technique, les ingénieurs et chercheurs qui travaillent dans le secteur recherche et développement ainsi que dans le secteur production de couches minces ou de revêtements de surface. Les étudiants d'IUT et d'écoles d'ingénieurs trouveront également les principes, les modèles et les principales données fondamentales concernant les procédés CVD couramment utilisés au niveau industriel.
Note de contenu :	Sommaire : -I- Procédés CVD thermiquement activés -II- Procédés CVD activés par plasma -III- Procédés CVD activés par un faisceau de photons